IC 디자인, 즉 통합 회로 설계는 나노 공정 기술에서 매우 높은 정밀도를 요구하며, 정확도가 높을수록 생산 공정이 더 발전된 것으로 간주됩니다. 프로세서에 더 많은 트랜지스터가 통합될수록 칩은 더 많은 기능을 수행할 수 있게 되며, 이는 직접적으로 프로세서의 생산 비용을 낮춥니다. 그러나 통합 회로의 공정 노드가 점점 작아짐에 따라 나노 구조 주기, 선 폭, 선 높이, 사이드월 각도 및 거칠기와 같은 기하학적 형태 정보를 측정하고 분석하는 것이 큰 도전 과제를 맞닥뜨리게 됩니다. 이러한 측정은 매우 중요합니다.
용액:
뮤러 행렬 타원계 측정을 사용하여 16개의 편광 정보 세트를 얻었으며, 더욱 정확한 타원계 매개변수 (PSI: 진폭 비율, △: 위상 차이)를 얻었습니다. 수백 개의 내장 광학 모델이 피팅에 사용되었으며, 나노 구조 주기, 선 폭, 선 높이, 사이드월각도 및 거칠기와 같은 기하학적 형태 정보가 측정 및 분석되었습니다.
광학 모델 설계
편광 요소 정보
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