Desprendedor de obleas / Sistema de desprendimiento de obleas / Desprendedor de fotoresistencias / Desprendedor de fotoresistencias para obleas / Sistema de incineración de obleas / Equipo de incineración de obleas
Este equipo es muy adecuado para su uso en laboratorios universitarios de fabricación de chips. Le ofrecemos una solución profesional integral para la fabricación de semiconductores y diversos equipos para el encapsulado de chips, procedente de China. El ingeniero de procesos y el ingeniero eléctrico del lado del usuario han completado la inspección de aceptación del equipo alineador de máscaras MDXN-G33D8.
Fabricación de Semiconductores / Grabado por Plasma / Grabado por Iones Reactivos
El diseño de IC, también conocido como diseño de circuito integrado, tiene una alta precisión en la tecnología de proceso nano, y cuanto mayor sea la precisión, más avanzado será el proceso de producción. Cuando se integran más transistores en el procesador, la chip puede lograr mo...
El grabado de materiales de baja dimensión se refiere al proceso de grabar materiales bidimensionales (como el grafeno, sulfuro de molibdeno, etc.) y materiales unidimensionales (como nan hilos, nanotubos, etc.). El propósito del grabado de materiales de baja dimensión es...
El horno de recocido rápido utiliza una lámpara de infrarrojo halógeno como fuente de calor para calentar el material a la temperatura requerida mediante un calentamiento rápido, con el fin de mejorar la estructura cristalina y las propiedades optoelectrónicas del material. Sus características inc...
Máquina para eliminar fotoresistente
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