Компанія Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

Головна сторінка
Про нас
Обладнання MH
Відео випадку
Рішення
Заграничні Користувачі
Зв'язатися з нами
Головна> Рішення>Виготовлення пластин
MD-2300 — установка для плазмового зняття фоторезисту з кремнієвих пластинах партійного типу. Завершено монтаж та введення в експлуатацію в Європі.
20 Sep 2026

MD-2300 — установка для плазмового зняття фоторезисту з кремнієвих пластинах партійного типу. Завершено монтаж та введення в експлуатацію в Європі.

Установка для зняття фоторезисту з кремнієвих пластинах / система зняття фоторезисту з кремнієвих пластинах / установка для зняття фоторезисту / установка для зняття фоторезисту з кремнієвих пластинах / установка для випалювання кремнієвих пластинах / обладнання для випалювання кремнієвих пластинах

MDXN-G33D8 — установка для вирівнювання масок, місце приймання замовником
26 Jan 2026

MDXN-G33D8 — установка для вирівнювання масок, місце приймання замовником

Цей пристрій є дуже придатним для використання в університетських лабораторіях з виготовлення мікросхем. Ми надаємо вам комплексне професійне рішення для виробництва напівпровідників та різноманітного обладнання для упаковки мікросхем із Китаю. Інженер-технолог та електрик з боку замовника завершили приймальні перевірки обладнання для вирівнювання масок MDXN-G33D8.

Етчинг: Одна з 3 основних установок у виробництві напівпровідників
28 May 2025

Етчинг: Одна з 3 основних установок у виробництві напівпровідників

Виробництво напівпровідників / Плазменний етчинг / Реактивний іонний етчинг

Розв'язок виявлення еліпсометра у промисловості інтегрованих схем IC
15 May 2025

Розв'язок виявлення еліпсометра у промисловості інтегрованих схем IC

Проектування ІС, також відоме як проектування інтегрованих схем, має високу точність в нано процесі технології, і чим більша точність, тим більш напередоглядний виробничий процес. Коли більше транзисторів інтегрується у процесор, чип може досягти...

інтерфейс матеріалу 2D / Патернування матеріалу 2D
22 Apr 2025

інтерфейс матеріалу 2D / Патернування матеріалу 2D

Етчинг матеріалів низької розмірності відноситься до процесу етчингу двовимірних матеріалів (например, графен, дисульфід молібдену тощо) та одновимірних матеріалів (наприклад, нанопровади, нанотрубки тощо). Метою етчингу матеріалів низької розмірності є...

Яка використовується швидка печка для анілювання у процесі виготовлення кристалів?
06 Mar 2025

Яка використовується швидка печка для анілювання у процесі виготовлення кристалів?

Швидка печка для анілювання використовує інфрачервону лампу з галогеном як джерело тепла, щоб нагріти матеріал до необхідної температури через швидке нагріvanня, щоб покращити кристалічну структуру та оптоелектронні властивості матеріалу. Її особливості вклучають...

Зв’язатися з нами

Запит Електронна пошта WhatsApp WeChat
Угору