Оборудование для удаления фоторезиста с пластин / Система удаления фоторезиста с пластин / Оборудование для удаления фоторезиста / Оборудование для удаления фоторезиста с пластин / Система золы для пластин / Оборудование для золы пластин
Это устройство отлично подходит для использования в университетских лабораториях по разработке микросхем. Мы предлагаем вам комплексное профессиональное решение для производства полупроводниковых изделий и различного оборудования для упаковки чипов из Китая. Инженеры-технологи и инженеры-электрики со стороны пользователя завершили приёмочную проверку установки для совмещения масок MDXN-G33D8.
Производство полупроводников / Плазменный этчинг / Реактивный ионный этчинг
Проектирование ИС, также известное как проектирование интегральных схем, имеет высокую точность в нанотехнологическом процессе, и чем выше точность, тем более передовой является производственный процесс. Когда большее количество транзисторов интегрируется в процессор, чип может достичь...
Этching низкоразмерных материалов относится к процессу etчинга двумерных материалов (например, графена, молибденового дисульфида и т.д.) и одномерных материалов (например, нанопроволок, нанотрубок и т.д.). Целью этчинга низкоразмерных материалов является...
Быстрый термический отжиг использует инфракрасную лампу с галогеном как источник тепла для нагрева материала до необходимой температуры через быстрый нагрев, чтобы улучшить кристаллическую структуру и оптоэлектронные свойства материала. Его особенности включают...
Устройство для удаления фотоштучного слоя
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
