دستگاه حذف فتو رزیست وافر / سیستم حذف فتو رزیست وافر / دستگاه حذف فتو رزیست / دستگاه حذف فتو رزیست روی وافر / سیستم سوزاندن وافر / تجهیزات سوزاندن وافر
این دستگاه برای استفاده در آزمایشگاه‌های تراشه دانشگاهی بسیار مناسب است. ما به شما راه‌حل حرفه‌ای جامعی برای ساخت نیمه‌هادی‌ها و تجهیزات مختلف بسته‌بندی تراشه از چین ارائه می‌دهیم. مهندس فرآیند و مهندس برق از سوی کاربر، بازرسی پذیرش دستگاه ترازکننده ماسک MDXN-G33D8 را انجام داده‌اند.
تولید میکروالکترونیک / حکاکی پلاسما / حکاکی یون فعال
طراحی IC، که به آن طراحی مدار مجتمع نیز گفته می‌شود، دقت بالایی در فناوری فرآیند نانو دارد، و هرچه دقت بیشتر باشد، فرآیند تولید پیشرفته‌تر است. وقتی ترانزیستورهای بیشتری در پردازنده ادغام می‌شوند، می‌تواند چیپ قابلیت‌های بیشتری را داشته باشد...
حکاکی مواد با ابعاد پایین به فرآیند حکاکی مواد دو بعدی (مانند گرافن، سولفید مولیبدوم، و غیره) و مواد یک بعدی (مانند نانو سیم، نانو لوله، و غیره) اشاره دارد. هدف حکاکی مواد با ابعاد پایین ...
کوره گرمایش سریع از لامپ مغناطیسی فروسرخ هالوژن به عنوان منبع گرما استفاده می‌کند تا مواد را به دمای مورد نیاز از طریق گرمایش سریع برساند و بنابراین ساختار بلوری و خواص نور-الکتریکی مواد را بهبود بخشد. ویژگی‌های آن شامل...
گوانگژو میندر-هایتک کو.,لtd.
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
