Die Erstellung von Mikroelektronik umfasst viele Schritte, die mit Vorsicht durchgeführt werden sollten. Die Wafer-Verbindung ist einer dieser kritischen Schritte. In der Praxis besteht Wafer-Verbindung darin, zwei dünne Materialien oder Wafers, wie sie im Fachjargon heißen, zusammenzufügen. Es ist wichtig, dass an allen Stellen, an denen sich die beiden berühren, eine sehr starke haftende Eigenschaft zueinander vorhanden ist, damit der Prozess effektiv funktioniert. Hier kommt die Oberflächenaktivierung ins Spiel, die das Bonden unterstützt.
Die Oberflächenaktivierung der Wafer ist eine spezifische Methode, die angewendet wird, um die Haftfähigkeit oder Klebeprozesse an der Waferoberfläche zu erhöhen. Plasma-Behandlung, UV/ Ozon-Behandlung oder chemische Funktionalisierung sind einige Ansätze, die zur Aktivierung der Oberfläche verwendet werden können. Diese Techniken unterscheiden sich voneinander und dienen dazu, die Waferoberfläche für den Bonding-Prozess geeignet zu machen.
Es dient außerdem dazu, die Qualität eines mikroelektronischen Geräts zu verbessern. Sie helfen den Wafers so richtig gut zusammenzuarbeiten, sodass sie die Wahrscheinlichkeit von Problemen wie Delamination verringern. Dadurch wird es besser funktionieren und länger halten, was auf eine erhöhte Robustheit des jeweiligen neumodischen Gadgets hinweist, in dem es untergebracht ist.
Neben der Verbesserung der Verbindung und der Qualität des Geräts hilft der Oberflächenaktivator auch dabei, das Wafer mit Sauberkeit zu überschütten. Auf diese Weise kann bei einem Aktivierungsprozess auf der Oberfläche jeder Schmutz oder unerwünschte Verunreinigung entfernt werden. Dies sollte letztendlich zu einer besseren, flacheren Oberfläche führen, auf der sie Mikroelektronik drucken können.
Schließlich kann eine Oberflächenaktivierung die Oberfläche der Wafer glatt machen. Wenn wir Kleber verwenden, um zwei Oberflächen zusammenzukleben, ist es schwierig, sie richtig zu verbinden, wenn die Oberfläche zu rau oder uneben ist. Ein Schleif- oder Aktivierungsprozess kann durchgeführt werden, um die Rauheit der Waferoberfläche zu minimieren, was die Verbindung und die Haftkraft verbessert.
Es gibt mehrere Konzepte, die bei der Wissenschaft der Aktivierungstechniken für Waferoberflächen berücksichtigt werden müssen. Und eines dieser Konzepte ist die Oberflächenenergie. Zum Vergleich: Oberflächenenergie – die Menge an Energie, die benötigt wird, um eine neue Oberfläche zu erzeugen. Wenn sich zwei Oberflächen treffen, binden sie sich entsprechend ihrer Oberflächenenergie.
Diese Oberflächenaktivierungstechniken bereiten im Wesentlichen der Wafer einige Energie zu, indem sie seine Oberflächenenergie erhöhen. Dadurch ist es einfacher für den Wafer, sich auf einer anderen Oberfläche festhaftend zu verbinden. Verfahren wie Plasma-Behandlung, UV/ Ozon-Behandlung und chemische Funktionalisierung erzeugen alle aktivierende Stellen in unterschiedlichem Maße, wodurch die Oberflächenenergie des Wafers erhöht wird, was entscheidend für eine erfolgreiche Verbindung ist.
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