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Wafer-Plasma-Loslösung

Die Bearbeitung von Wafers ist eine der wichtigsten Phasen, um Mikrochips herzustellen. Diese Chips sind wichtig, weil sie viel von der Technologie liefern, die in unserem Alltag verwendet wird – Computer, Smartphones und einige andere Geräte. Ein Teil des Fertigungsprozesses von Mikrochips besteht darin, Siliziumwafers von ihrer Trägerbasis oder Substraten zu trennen. Die kleinen, spitzen sind der schwierigste Teil dieses Prozesses und müssen vorsichtig behandelt werden. Aber hey, es wurde eine neue Technologie von Minder-Hightech entwickelt, genannt Minder-Hightech. Plasma-Behandlung auf Wafer-Ebene

Effizientes Trennen mit Plasma-Technologie

Plasma-Debonding von Wafern — Beste Methode, um einen Wafer von seinem Träger zu lösen. Dies geschieht durch eine Plasmaentladung, die als Energiequelle dient. Das Verfahren wird so gestaltet, dass es an der Oberfläche sehr aktiv ist, und diese Energie führt zu einer Verringerung der Bindung zwischen dem Wafer und seinem Wachstumswafer; so erhitzt man diesen Wafer alleine. Wenn jedoch diese Bindung schwach ist, kann sie durch die kontrollierte Kraft ohne Beeinträchtigung des Wafers selbst gelöst werden! Nicht nur ist dies ein schneller Prozess, sondern die Wafer sind beim Auseinanderziehen dank der Verwendung von UV-Licht ebenfalls vollständig sicher.

Why choose Less-Hightech Wafer-Plasma-Loslösung?

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