Thiết kế IC, còn được gọi là thiết kế mạch tích hợp, có độ chính xác cao trong công nghệ quy trình nano, và càng chính xác thì quá trình sản xuất càng tiên tiến. Khi có nhiều bóng bán dẫn hơn được tích hợp vào bộ xử lý, chip có thể thực hiện nhiều chức năng hơn, điều này trực tiếp làm giảm chi phí sản xuất của bộ xử lý. Tuy nhiên, khi các nút quy trình trong mạch tích hợp trở nên nhỏ hơn, việc đo lường kích thước quan trọng cũng đối mặt với những thách thức lớn. Việc đo lường và phân tích thông tin hình thái hình học như chu kỳ cấu trúc nano, chiều rộng đường nét, chiều cao đường nét, góc tường bên và độ nhám là cực kỳ quan trọng.
Giải pháp:
Bằng cách sử dụng phép đo ellipsometri ma trận Mueller, 16 bộ thông tin cực hóa đã được thu thập, và các tham số ellipsometri chính xác hơn (PSI: tỷ lệ độ mạnh, △: sai lệch pha) đã được tính toán. Hàng trăm mô hình quang học có sẵn đã được sử dụng để khớp dữ liệu, sau đó thông tin hình thái học như chu kỳ cấu trúc nano, chiều rộng đường nét, chiều cao đường nét, góc thành bên và độ nhám đã được đo lường và phân tích.
Xây dựng mô hình quang học
Thông tin phần tử cực hóa
Công ty TNHH Công nghệ Cao Minder Quảng Châu
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
