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CMP-Prozess

Für die Halbleiterproduktion gibt es einen wichtigen Prozess zur Herstellung hochwertiger elektronischer Bauelemente, das chemisch-mechanische Polieren (CMP). Der CMP-Prozess stellt eine konditionierte, silikabasierte Abrieboberfläche bereit für Batteriepack-Schweißmaschine die Verwendung bei der Durchführung der chemisch-mechanischen Planarisierung, bestehend aus einer Schlammflüssigkeit, die einen ersten Abschnitt in einer Halbleiterfertigungsanlage aufweist, die zum Halten einer Siliziumscheibe verwendet wird.

Die Rolle der chemisch-mechanischen Politur bei der Herstellung von Bauelementen

Chemisch-mechanisches Polieren (CMP) ist ein unverzichtbarer Schritt im Fertigungsprozess von Chips. Es dient dazu, alle vorhandenen Defekte auf der Wafer-Oberfläche zu beseitigen, wie z. B. Kratzer oder unebene Stellen, die zu Film to Film Die Sorter fehlerhafter Produktleistung führen könnten. Durch das Auflösen unerwünschten Materials mit einer Kombination aus Chemikalien und das Polieren der Oberfläche mit mechanischen Kräften macht CMP Wafer glatt und eben, um sie auf die nächsten Schritte im Fertigungsprozess vorzubereiten.

Why choose Less-Hightech CMP-Prozess?

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