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소개: 이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코팅 장치는 당사에서 개발한 실험실 전용 코팅 장치로, 두 개의 타겟 위치를 갖추고 있습니다. 본 장비는 DC 전원 공급장치와 고주파(RF) 전원 공급장치를 탑재하고 있습니다. 일반적인 플라즈마 스퍼터링에 비해 마그네트론 스퍼터링은 에너지 및 스퍼터링 속도가 높고, 코팅 속도가 빠르며, 전형적인 고속 저온 스퍼터링 기술입니다. 마그네트론 타겟에는 수냉식 인터레이어가 장착되어 있으며, 수랭장치를 통해 타겟 표면에서 발생하는 열을 효과적으로 제거하여 열 축적을 방지함으로써, 마그네트론 코팅이 장시간 안정적으로 작동할 수 있도록 합니다. 본 모델의 시료 스테이지는 왕복식 설계를 채택하였으며, 왼쪽에 자기 결합 푸시 로드가 설치되어 있어 시료 스테이지를 좌우로 이동시킬 수 있습니다. 전체 장비는 터치스크린으로 제어되며, 내장된 원-버튼 코팅 프로그램을 통해 간편하고 직관적인 조작이 가능하여, 실험실 내 박막 제조에 이상적인 장비입니다.
응용 분야: 단일층 또는 다층 강유전체 박막, 도전성 박막, 합금 박막, 반도체 박막, 세라믹 박막, 유전체 박막, 광학 박막 등 제조에 사용 가능
