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  • 완전 자동 듀얼 챔버 빠른 열 처리 시스템 RTP 장비
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완전 자동 듀얼 챔버 빠른 열 처리 시스템 RTP 장비

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제품 설명

빠른 열 처리

복합 반도체、SlC、LED 및 MEMS 용 신뢰할 수 있는 RTP 장비 제공

산업 응용 프로그램

* 실리사이드 합금의 담금질
* 산화물 재순환
* 갈륨 아르세나이드 공정
* 기타 빠른 열처리 공정
사양
테스트 보고서
20차 곡선 일치
850℃에서의 20개 온도 제어 곡선
20개 평균 온도 곡선의 일치
1250℃ 온도 제어
RTP 온도 제어
1000 ℃ 공정
960℃ 공정, 적외선 피로미터로 제어
LED 공정 데이터
RTD 웨이퍼는 특수 처리 기술을 사용하여 웨이퍼 표면의 특정 위치에 온도 센서(RTDs)를 내장한 온도 센서로, 웨이퍼의 표면 온도를 실시간으로 측정할 수 있게 합니다.

웨이퍼의 특정 위치에서 실제 온도를 측정하고 웨이퍼 전체의 온도 분포를 얻을 수 있습니다. 또한 열 처리 공정 중 웨이퍼의 일시적인 온도 변화를 지속적으로 모니터링하는 데에도 사용할 수 있습니다.
포장 및 배송
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우리는 장비 판매에서 16년의 경험이 있습니다. 우리는 당신에게 중국에서 한 번에 반도체 프론트엔드 및 백엔드 패키지 라인 장비 솔루션을 제공할 수 있습니다!

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