강조
소개:
이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코팅기는 당사에서 개발한 실험실 전용 코팅기이다. 본 장비는 500W~1000W 출력 범위의 DC 전원 공급장치 및 RF 전원 공급장치를 장착할 수 있다. 일반 플라즈마 스퍼터링에 비해 마그네트론 스퍼터링은 에너지와 스퍼터링 속도가 높고, 코팅 속도가 빠르며, 시료 온도 상승이 적은 장점을 지닌다. 따라서 이는 전형적인 고속·저온 스퍼터링 방식이다. 마그네트론 타겟에는 수냉식 인터레이어가 장착되어 있으며, 냉각수 냉각장치가 타겟 표면의 열을 효과적으로 제거하여 열 축적을 방지함으로써, 마그네트론 코팅이 장시간 안정적으로 작동할 수 있도록 한다. 본 장비는 부피와 성능 간 균형을 이루기 위해 컴팩트하게 설계되었으며, 외관이 우수하고 기능이 종합적이다. 전체 장비는 터치스크린으로 제어되며, 내장된 원버튼 코팅 프로그램을 통해 간편하고 직관적인 조작이 가능하다. 이는 실험실에서 박막 제작을 위한 이상적인 장비이다.
응용 분야: 단일층 또는 다층 강유전체 박막, 도전성 박막, 합금 박막, 반도체 박막, 세라믹 박막, 유전체 박막, 광학 박막 등 제조에 사용 가능