프로젝트 |
사양 |
비고 |
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1 |
장비 개요 |
장비 이름: 완전 자동 균일 도포 및 현상 기계 |
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장비 모델: MD-2C2D6 |
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처리 웨이퍼 사양: 4/6인치 표준 웨이퍼와 호환 가능 |
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균일 도포 공정 흐름: 꽃바구니 슬라이싱 → 센터링 → 균일 도포 (드리핑 → 균일 도포 → 엣지 제거, 뒷면 세척) → 핫 플레이트 → 콜드 플레이트 → 바구니 배치 현상 공정 흐름: 꽃바구니 슬라이싱 → 센터링 → 현상 (현상액 → 이온 교환수, 뒷면 세척 → 질소 건조) → 핫 플레이트 → 콜드 플레이트 → 바구니 배치 |
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전체 크기 (약): 2100mm (W) * 1800mm (D) * 2100mm (H) |
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화학 저장장치 크기 (약): 1700(W) * 800(D) * 1600mm (H) |
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총 중량 (약): 1000kg |
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작업대 높이: 1020 ± 50mm |
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2 |
카세트 유닛 |
수량: 2 |
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호환 가능한 크기: 4/6 인치 |
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카세트 감지: 마이크로스위치 감지 |
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슬라이드 아웃 감지: 예, 반사형 센서 |
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3 |
로봇 |
수량: 1 |
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유형: 이중 팔 진공 흡착 로봇 |
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자유도: 4축 (R1, R2, Z, T) |
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핑거 재질: 세라믹 |
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기판 고정 방식: 진공 흡착 방식 |
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매핑 기능: 있음 |
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위치 정확도: ± 0.1mm |
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4 |
센터링 장치 |
수량: 1세트 |
옵션 광학 정렬 |
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정렬 방식: 기계식 정렬 |
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센터링 정확도: ± 0.2mm |
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5 |
균일 도포 장치 |
수량: 2 세트 (이하는 각 장치의 구성) |
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스핀들 회전 속도: -5000rpm~5000rpm |
수송 아이들러 |
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주축 회전 정확도: ± 1rpm (50rpm~5000rpm) |
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주축 회전 속도 최소 조정: 1rpm |
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주축 회전 최대 가속도: 20000rpm/s |
수송 아이들러 |
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드리핑 암: 1 세트 |
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포토레지스트 튜브 경로: 2 경로 |
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포토레지스트 노즐 직경: 2.5mm |
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포토레지스트 절연: 23 ± 0.5 ℃ |
선택 사항 |
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윤활 노즐: 예 |
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RRC: 예 |
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버퍼: 예, 200ml |
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접착제 드롭 방법: 중앙 드롭 및 스캐닝 드롭 선택 가능 |
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엣지 제거 암: 1 세트 |
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엣지 제거 노즐 직경: 0.2mm |
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엣지 제거 액체 흐름 모니터링: 플로트 유량계 |
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엣지 제거 액체 유량 범위: 5-50ml/분 |
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역세척 파이프라인: 2 방식 (각각 4/6 인치, 채널 1개씩) |
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역세척 흐름 모니터링: 플로트 유량계 |
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역세척 용액 유량 범위: 20-200ml/분 |
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칩 고정 방법: 소형 영역 진공 흡입 Chuck |
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진공 압력 경보: 디지털 진공 압력 센서 |
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체크 재질: PPS |
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컵 재질: PP |
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컵 배기 모니터링: 디지털 압력 센서 |
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6 |
현상 장치 |
셔터: 있음 |
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수량: 2 세트 (이하는 각 장치의 구성) |
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스핀들 회전 속도: -5000rpm~5000rpm |
수송 아이들러 |
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주축 회전 정확도: ± 1rpm (50rpm~5000rpm) |
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주축 회전 속도 최소 조정: 1rpm |
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주축 회전 최대 가속도: 20000rpm/s |
수송 아이들러 |
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현상 팔: 1 셋 |
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현상 파이프라인: 2-way (venta-shaped/원형 노즐) |
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현상액 필터링: 0.2um |
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현상액 온도 제어: 23 ± 0.5 ℃ |
선택 사항 |
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현상액 흐름 범위: 100~1000ml/분 |
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현상암 동작 모드: 고정점 또는 스캐닝 |
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현상암: 1 세트 |
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이온제거수 파이프라인: 1 회로 |
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이온제거수 노즐 직경: 4mm (내경) |
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이온제거수 흐름 범위: 100~1000ml/분 |
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질소 건조 파이프라인: 1 회로 |
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질소 노즐 직경: 4mm (내경) |
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질소 흐름 범위: 5-50L/분 |
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현상액, 이온제거수, 질소 흐름 모니터링: 플로우계 |
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역세척 파이프라인: 2 방식 (각각 4/6 인치, 채널 1개씩) |
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역세척 흐름 모니터링: 플로트 유량계 |
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역세척 용액 유량 범위: 20-200ml/분 |
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칩 고정 방법: 소형 영역 진공 흡입 Chuck |
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진공 압력 경보: 디지털 진공 압력 센서 |
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체크 재질: PPS |
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체크 재질: PPS |
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컵 재질: PP |
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컵 배기 모니터링: 디지털 압력 센서 |
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7 |
접착 유닛 |
수량: 2 |
선택 사항 |
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온도 범위: 실온~180 ℃ |
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온도 균일성: 실온~120 ℃± 0.75 ℃ 120.1℃~ 180℃ ± 1.5℃ (변緣 10mm 제거, 이젝터 핀 구멍 제외) |
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최소 조정량: 0.1 ° C |
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온도 제어 방식: PID 조정 |
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PIN 높이 범위: 0-20mm |
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PIN 재질: 본체 SUS304, PIN 핀 캡 PI |
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베이킹 간격: 0.2mm |
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과열 경보: 양 및 음 편차 경보 |
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공급 방식: 거품, 10 ± 2ml/분 |
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챔버 작동 진공도: -5-20KPa |
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8 |
핫 플레이트 유닛 |
수량: 10 |
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온도 범위: 실온~250 ℃ |
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온도 균일성: 실온~120 ℃± 0.75 ℃ 120.1℃~ 180℃ ± 1.5℃ 180.1℃~250℃ ±2.0℃ (변緣 10mm 제거, 이젝터 핀 구멍 제외) |
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최소 조정량: 0.1 ℃ |
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온도 제어 방식: PID 조정 |
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PIN 높이 범위: 0-20mm |
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PIN 재질: 본체 SUS304, PIN 핀 캡 PI |
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베이킹 간격: 0.2mm |
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과열 경보: 양 및 음 편차 경보 |
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9 |
콜드 플레이트 유닛 |
수량: 2 |
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온도 범위: 15-25 ℃ |
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냉각 방식: 상온 순환펌프 냉각 |
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10 |
화학물질 공급 |
포토레지스트 저장: 공압식 접착제 펌프 * 4세트 (옵션 탱크 또는 전기식 접착제 펌프) |
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접착제 분사량: 세션당 최대 12ml, 정확도 ± 0.2ml |
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엣지 제거/뒷면 세척/RRC 공급: 18L 압력 탱크 * 2 (자동 보충) |
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엣지 제거/뒷면 세척/RRC 액위 모니터링: 광전 센서 |
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포토레지스트 액위 모니터링: 광전 센서 |
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균일한 접착제 폐액 배출: 10L 폐액 탱크 |
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현상액 공급: 18L 압력 탱크 * 4 (기계 외부의 화학물질 캐비닛에 저장됨) |
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이온수 공급: 공장 직수 |
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액체 수준 모니터링 개발: 광전 센서 |
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개발자 폐수 배출: 공장 폐수 배출 |
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타키피어 공급: 10L 압력 탱크 * 1, 2L 압력 탱크 * 1 |
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타키피어 수준 모니터링: 광전 센서 |
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11 |
제어 시스템 |
제어 방식: PLC |
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인간-기계 조작 인터페이스: 17인치 터치 스크린 |
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단일 전원 공급 장치 (UPS): 예 |
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장치 운영자, 기술자, 관리자를 위한 신호 암호화 권한 설정 |
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신호 타워 유형: 빨강, 노랑, 초록 3색 |
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12 |
시스템 신뢰성 지표 |
가동 시간: ≥95% |
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MTBF: ≥ 500h |
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MTTR: ≤ 4h |
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MTBA: ≥24h |
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편차율: ≤ 1/10000 |
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13 |
기타 기능 |
노란색 경고등: 4 세트 (위치: 접착제 혼합 및 개발 유닛 위쪽) |
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THC: 예, 22.5 ℃± 0.5 ℃, 45% ± 2% |
선택 사항 |
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FFU: 100등급, 5 세트 (공정 유닛 및 로봇 영역) |
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VI
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HU
TH
TR
FA
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MS
GA
IS
HY
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