Four de brasage sous vide à haute vacuité activé thermiquement , China Four de brasage sous vide à haute vacuité activé thermiquement Manufacturers, Suppliers, Factory

Four à brasage sous vide poussé thermiquement activé MDVES-300RJ

微信图片_20261010100123.jpg 微信图片_20261010100114.jpg

Application :

Instruments, capteurs et détecteurs infrarouges Snail.

Caractéristiques :

1. Cet équipement est conçu pour l’activation simultanée et l’étanchéité de produits contenant des getters. Il prend en charge l’activation sous vide poussé et à haute température, ainsi que les procédés d’étanchéité à haute et basse température.

2. Il utilise un mécanisme de levage spécialisé et un système d’isolation thermique afin de garantir des écarts de température efficaces, sans affecter le procédé d’étanchéité du couvercle secondaire.

3. Outils et dispositifs de fixation personnalisés selon les produits, capables de traiter des pièces de grandes dimensions et de soutenir la production de masse, ce qui améliore l’efficacité et le rendement de la production.

4. Les produits sont placés sur des plateaux et fixés à l’aide de pinces en forme de L, avec une précision de positionnement de 0,02 mm à la fois verticalement et horizontalement.

5. Il atteint des niveaux de vide poussé allant jusqu’à 10^-5 Pa, assurant ainsi des courbes d’activation sous vide poussé parfaites, d’activation à haute température et de soudage par activation.

6. Convient aux produits de détection infrarouge non refroidis, aux dispositifs MEMS, aux gyroscopes et à d’autres dispositifs similaires.

Effet de soudure :

Paramètres :

Cadre de base
Cadre de base	Environ 1500 mm × 900 mm × 840 mm
Hauteur de la chambre	Environ 500 mm – 530 mm
Fenêtre d'observation	Équipée d’une fenêtre d’observation à l’avant de la chambre
Poids	Environ 500 kg
Système de vide
Pompe à vide	Pompe à vide primaire (sèche) + pompe moléculaire
Vide de procédure	10⁻⁵ Pa
Environnement d’activation	350°C pendant environ 15 minutes ou plus
Système de gaz
Gaz de processus	Azote
Système de chauffage et de refroidissement
Méthode de chauffage	Chauffage par contact, taux de chauffage de 120 °C/min
Méthode de refroidissement	Refroidissement par contact, taux de refroidissement de 120 °C/min
Matériau de la plaque chauffante	Revêtement en alliage
Zone de chauffage	270 mm – 300 mm (axe X) × 270 mm – 300 mm (axe Y)
Élément chauffant	Tube de chauffage sous vide spécial ; température mesurée par des modules PLC Siemens et régulation PID via l’ordinateur hôte
Plage de température	Maximum 450 °C
Précision de contrôle de la température	±1°C
Uniformité de la température	±2,5 °C
Canaux de détection	4 canaux
Besoins en énergie	380 V, 50 Hz, puissance ≤25kW
Système de commande
Méthode de commande	API Siemens + ordinateur industriel
Plateforme de levage	Précision de repositionnement répétée de 0,02 mm, course de levage de 150 mm
Joint d’étanchéité de la plateforme de levage	Étanchéité unique de type soufflet sur l’arbre d’entraînement pour assurer une étanchéité parfaite pendant le déplacement de l’arbre
Plaque de montage	Graphite
Nombre de dispositifs de montage	Personnalisé selon les exigences du produit
Équipement de soutien
Configuration Standard	Pompe à vide sèche, groupe frigorifique à circulation, pompe à molécules, dispositifs de montage, plateforme de levage
Exigences environnementales
Source de gaz	Pression gazeuse : 0,5 à 0,8 MPa
Alimentation électrique	380 V, 50 Hz, puissance ≤25kW
Température ambiante	15~35°C
Humidité relative	≤75%