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Introduction : L'instrument de dépôt par pulvérisation magnétron à double cible est un instrument de dépôt spécifique aux laboratoires, développé par notre société, doté de deux positions de cibles. L'équipement est équipé d'une alimentation électrique continue (DC) et d'une alimentation haute fréquence (RF). Par rapport à la pulvérisation plasma ordinaire, la pulvérisation magnétron présente des avantages tels qu’une énergie et une vitesse élevées, un taux de dépôt élevé, et constitue une méthode typique de pulvérisation à grande vitesse et basse température. La cible magnétron est équipée d’une couche intermédiaire refroidie à l’eau. Le groupe frigorifique permet d’évacuer efficacement la chaleur et d’éviter l’accumulation thermique à la surface de la cible, ce qui garantit un fonctionnement stable et prolongé du procédé de dépôt magnétron. Le porte-échantillon de ce modèle adopte une conception à mouvement alternatif, avec une tige de poussée à couplage magnétique située sur le côté gauche, permettant de déplacer le porte-échantillon vers la gauche ou vers la droite. L’ensemble de la machine est commandé via un écran tactile, doté d’un programme de dépôt « un bouton », simple et facile à utiliser, ce qui en fait un équipement idéal pour la préparation de couches minces en laboratoire.
Application : Il permet de préparer des couches minces ferroélectriques simples ou multicouches, des couches conductrices, des couches d’alliages, des couches semi-conductrices, des couches céramiques, des couches diélectriques, des couches optiques, etc.
