Machine de lithographie sans masque MDZY-DMD-MLL200 DMD , China Machine de lithographie sans masque MDZY-DMD-MLL200 DMD Manufacturers, Suppliers, Factory

Description du produit

MDZY-DMD-MLL200
Machine de lithographie sans masque DMD

La MDZY-DMD-MLL200 est une machine de lithographie sans masque basée sur la technologie DMD (Dispositif Numérique à Micromiroirs). En remplaçant les masques traditionnels par un DMD, elle permet une conception rapide et flexible de motifs de lithographie, prenant en charge la lithographie 2D et en niveaux de gris 8 bits. Elle peut répondre à toutes les exigences de lithographie à l'échelle micrométrique et est largement utilisée dans divers domaines tels que les MEMS et la microfluidique.

Caractéristiques

1. Conception compacte sur bureau
2. Source lumineuse de projection à LED haute puissance et haute uniformité
3. Projection guidée par lumière verte
4. Mise au point automatique de l'image à l'aide d'une caméra CCD
5. Plateau motorisé linéaire haute précision
6. Interface logicielle facile à utiliser

Paramètres

Longueur d'onde centrale de la source lumineuse UV	405nm
Uniformité de l'exposition	Plus de 90 %
Largeur minimale de ligne de motif	0,5 µm
Surface d'exposition du champ d'écriture en une seule passe	0,16 × 0,16 mm (@0,5 µm)
Vitesse d'écriture	80 mm²/min (largeur de ligne de trait de 1 µm)
Formats d'image pris en charge	DXF, GDS, bmp, png, etc.

Configuration

Configuration	Version de base	Version professionnelle
Source lumineuse	LED haute puissance : 405 nm
Puce DMD	DLP6500
Surface d'exposition monocellulaire	0,160,16 mm (@0,5 µm), 0,40,4 mm (@0,7 µm), 0,80,8 mm (@1 µm), 1,61,6 mm (@2 µm)
CAMÉRA	Caméra de microscope à grande surface (prend en charge la mesure des dimensions)
Largeur minimale de ligne équidistante	0,8 µm	0.5μm
Précision d'assemblage	±0,3 µm	±0,3 µm
Précision de superposition	±0,5 µm	±0,5 μm
Vitesse d'écriture	20 mm²/min (largeur de ligne de motif de 1 µm)	80 mm²/min (largeur de ligne de motif de 1 µm)
Plateau mobile	Moteur linéaire haute précision (précision de positionnement répétable ±0,25 µm), mécanisme de nivellement, plateau rotatif manuel	Moteur linéaire haute précision (précision de positionnement répétable ±0,25 µm), mécanisme de nivellement, plateau rotatif électrique
Changeur d'objectif	Changement manuel d'objectif	Changement motorisé d'objectif
Module de mise au point	Autofocus par image CCD	Mise au point active au laser
Tailles de gaufrettes prises en charge	4 pouces	4 pouces/8 pouces
Épaisseur de l'échantillon	0 à 10 mm	0-10 mm

Cas de demande

Puce microfluidique

Lithographie DMD UV pour fonction de superposition

Gravure de nanogréilles au tellure, suivie d'une superposition d'électrodes

Lithographie en niveaux de gris de lentilles de Fresnel, lithographie 3D en niveaux de gris pour lentilles de Fresnel, montrant des changements d'étape continus sur l'image en coupe provenant du microscope électronique à balayage.

Électrodes en matériau bidimensionnel, électrodes en matériau bidimensionnel après évaporation et soulèvement, les électrodes évaporées sont en Ti/Au/Ti (12 nm au total)

Lithographie combinée DMD UV et faisceau d'électrons

Logiciel

Les utilisateurs peuvent effectuer toutes les opérations de lithographie depuis l'interface principale, sans aucune fenêtre contextuelle.

Module de rognage d'image :

Comprend des fonctions telles que le rognage personnalisé, le remplissage automatique, l'inversion des couleurs et l'anticrénelage.

Liaison d'objet :

Les utilisateurs peuvent définir des liaisons d'objets à n'importe quel emplacement sur la surface de l'échantillon et prévisualiser simultanément la correspondance entre n'importe quelle sous-image de l'image en champ complet et la surface de l'échantillon, permettant un superposition précise.

Fonction de dessin in-situ :

Des graphiques peuvent être dessinés directement sur l'image microscopique et projetés sur l'échantillon afin de réaliser une lithographie optique in-situ.

Équipement Réel Photos

Emballage et livraison

Profil de l'entreprise

Depuis 2014, Minder-Hightech est représentant commercial et de service dans l'industrie des équipements pour les produits semiconducteurs et électroniques. Nous nous engageons à fournir aux clients des solutions supérieures, fiables et clés en main pour les équipements machines. Aujourd'hui, les produits de notre marque se sont répandus dans les principaux pays industrialisés du monde entier, aidant les clients à améliorer leur productivité, réduire leurs coûts et accroître la qualité des produits.

FAQ

1. À propos du prix :
Tous nos prix sont compétitifs et négociables. Le prix varie en fonction de la configuration et de la complexité de personnalisation de votre appareil.

2. À propos des échantillons :
Nous pouvons vous fournir des services de production d'échantillons, mais des frais peuvent être requis.

3. À propos du paiement :
Une fois le plan confirmé, vous devez d'abord nous verser un acompte et l'usine commencera à préparer les marchandises. Une fois l'équipement prêt et après paiement du solde, nous l'expédierons.

4. À propos de la livraison :
Une fois la fabrication de l'équipement terminée, nous vous enverrons une vidéo de contrôle qualité et vous pourrez également venir sur place pour inspecter l'équipement.

5. Installation et mise au point :
Une fois que l'équipement est arrivé dans votre usine, nous pouvons envoyer des ingénieurs pour installer et mettre en service l'équipement. Nous vous fournirons un devis séparé pour ce coût de service.

6. À propos de la garantie :
Nos équipements bénéficient d'une période de garantie de 12 mois. Après la période de garantie, si des pièces sont endommagées et doivent être remplacées, nous ne facturerons que le prix des coûts.

7. Service après-vente :
Toutes les machines bénéficient d'une période de garantie supérieure à un an. Nos ingénieurs techniques sont toujours en ligne pour vous fournir des services d'installation, de mise au point et de maintenance du matériel. Nous pouvons fournir des services d'installation et de mise au point sur site pour les équipements spéciaux et les grands équipements.

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