




Matériau du composant |
Si et autres |
Taille des éclats |
épaisseur de 0,3 à 30 mm : 0,05 à 1,0 [mm] |
Méthodes d'approvisionnement |
plateau 2, 4 pouces (plateau alvéolé, gel-pak, plateau métallique, etc.) |
Matériau du substrat |
SUS, Cu, Si, pièce brute, céramique et autres |
Quantité de plateaux |
plateau de 2 pouces jusqu'à 8, ou plateau de 4 pouces jusqu'à 2 ; Le plateau peut être librement configuré pour puce ou substrat. |
Taille extérieure du substrat |
15~50 [mm] et plaquette de 8 [pouces] |
Épaisseur du substrat |
Plaque de base de forme plane 0,1~3,0[mm] ; Plaque inférieure de forme tubulaire : A:0,1~2[mm] B:≤5[mm], C:≤7[mm] Distance minimale entre la puce et la paroi intérieure du boîtier D : 21 mm |
UPH |
Environ 12 [sec/cycle] [Conditions du temps de cycle] |
Axe Z |
Résolution |
0,1[μm] |
|
Plage de déplacement |
200[mm] |
||
Vitesse |
Max. 250[mm/sec] |
||
axe θ |
Résolution |
0,000225[°] |
|
Plage de déplacement |
±5[°] |
||
Maintien de la puce |
Méthode de succion par vide |
||
Changement de recette |
Méthode ATC (changeur d'outils automatique) Nombre maximal de bagues à changer : 20x20[mm] 6 types *2 types lorsque 30x30[mm] (en option) usagé. |
||
Plage de réglage |
Plage de faible charge : 0,049 à 4,9[N] (5 à 500[g]) Plage de charge élevée : 4,9 à 1000 [N] (0,5 à 102 [kg]) * Le contrôle de charge couvrant les deux plages n'est pas possible. * Le cornet ultrasonique est uniquement destiné à la zone à forte charge |
Précision de la pression |
Plage de charge faible : ±0,0098 [N] (1 [g]) Plage de charge élevée : ±5 [%] (3σ) * Les deux précisions concernent la charge réelle à température ambiante. |
Méthode de chauffage |
Méthode de chauffage par impulsions (résistance céramique) |
Température définie |
Température ambiante ~450 [°C] (par pas de 1 [°C]) |
Vitesse d'élévation de température |
Max80[°C/sec] (sans outil en céramique) |
Distribution de température |
+5[°C] (surface de 30x30[mm]) |
Fonction de refroidissement |
Avec outil chauffant, fonction de refroidissement au travail |
Fréquence d'oscillation |
40[kHz] |
## Plage de vibration |
Environ 0,3 à 2,6[µm] |
Méthode de chauffage |
Méthode de chaleur constante (corne ultrasonique) |
Température définie |
RT~250[°C] (pas de 1[°C]) |
Taille de l'outil |
Types de remplacement d'outil M6 (type vissé) *Doit être changé en type rigide pour une taille de puce supérieure à 7x7 [mm]. |
Autres |
Nécessite le remplacement par une tête chauffante à impulsion. |
Zone de montage |
50×50 [mm] |
Méthode de chauffage |
Ceramic Heater |
Température définie |
Température ambiante ~450 [°C] (par pas de 1 [°C]) |
Distribution de température |
+5[°C] |
Vitesse d'élévation de température |
Max 70[°C/s] (sans outillage céramique) |
Fonction de refroidissement |
Disponible |
Maintien du travail |
Méthode de succion par vide |
Changement de recette |
Changement d'outillage |
Plateau XY |
Chauffage constant |
||
Étape de liaison principale |
Zone de montage |
200×200 [mm] (48 [pouces] de surface) |
|
Méthode de chauffage |
Chaleur constante |
||
Température définie |
200×200 [mm] : Température ambiante à 250[°C] (pas de 1[°C]) |
||
Distribution de température |
±5 % (200×200 [mm]) |
||
Maintien du travail |
Méthode de succion par vide |
||
Changement de recette |
Changement d'outillage |
||



Droits d'auteur © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Tous droits réservés