장비 사양 |
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장비 본체 |
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윤곽 차원 |
1730mm (길이) 700mm (폭) 1420mm (높이) |
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무게 |
500kg |
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기계 조정 |
완전한 기계 수준 테스트 / 조정 |
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소스 |
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전압 |
220～240VAC |
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전력 |
7000W |
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주파수 |
50/60Hz |
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공간 |
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히팅 테이블 크기 |
99.99% 알루미나 히팅 플레이트, 크기 (길이 및 너비): 49mm × 49mm, 45mm × 45mm |
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최대 샘플 |
40mm×40mm |
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샘플 테이블 조정 |
평준화 |
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이미지 캡처 시스템 |
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최대 이미지 |
5000（H）× 4000（V） |
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최대 프레임 속도 |
200 fps (프레임 수 증대를 위해 업그레이드됨) |
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센서 |
SONY 1/1.8" |
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광 스펙트럼 |
흑백 / 컬러 |
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수익률 |
사용자 정의 |
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라인 너비 표시 |
사용자 정의 |
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노출 시간 |
사용자 정의 |
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소스 |
5-VDC USB 인터페이스 |
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전송 |
USB3 비전 |
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현미경 헤드 |
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초점 거리 |
650mm ± 5mm (줌 조정) |
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배율 |
10 회 |
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원근 조정 |
틸트 -10~10° 정확도 ± 0.1°; 좌우 ± 25mm, 높이 ± 10mm; 전체 모듈은 이동 위치를 신속히 전환할 수 있으며 스트로크는 150mm 이상으로 잠금 기능 있음 |
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해상도 스케일링 |
4～14um |
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수집 시스템 조절 |
위쪽 / 위로 / 평평 |
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조명 |
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유형 |
단일 파장 산업용 LED (냉광) |
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파장 |
460nm |
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광학 필드 |
80mm×80mm |
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광점 |
150 곡 입자 밀도 공식 |
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수명 |
50000시간 |
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고온 시스템 |
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고온로 |
120mm (긴) |
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30구간 지능형 온도 제어, 최대 온도 상승률은 10℃/분, 온도 제어 정확도 1000℃ 이하, ± 0.1℃, 1000℃ 초과, ± 1℃ |
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상온에서 대기압 상태로 1500℃까지, 진공 상태로는 1400℃까지 |
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99.99% 고순도 산화알루미늄 가열관 및 석영관, 길이 1000mm, 외경 60mm, 내경 50mm |
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이중 온도 제어, 가열관의 내외부 온도를 측정 |
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이중 냉각 장치, 5-35℃ 온도 제어, 유량 15 L/min 냉각 시스템 용량 11L, 냉각 용량 1520W |
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보호 가스 접근 제어 시스템이 두 개 이상 포함 |
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수입된 석영을 사용한 동축 양방향 창구, 분리가 용이함 |
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진공 펌프 |
메카니컬 펌프 (진공도 10Pa), 분자펌프 (10-3Pa) 선택 가능 |
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진공 범위 메카니컬 펌프 (105~10-3Pa), 분자펌프 (105~10-7Pa) |
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소프트웨어 |
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접촉각 범위 |
0～180° |
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해상도 비율 |
0.01° |
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온도 제어 설정 |
30단계 가열 프로그램 설정, 시작 및 정지 제어 |
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접촉각 측정 방법 |
완전 자동, 반자동 및 수작업 작업 |
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분석 모드 |
중지 방울 방법 (2/3 상태), 좌석 방울 방법, 매달린 방울 방법 |
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분석 절차 |
정적 분석, 침투 동적 분석, 실시간 분석, 양측 분석 |
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시험 방법 |
원 방법, 타원/사선 타원 방법, 미분 원/미분 타원 방법, 영-라플라스, 너비와 높이 방법, 접선 방법, 구간 방법 |
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표면 자유 에너지 |
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시험 방법 |
Zisman, OWRK, WU, WU 2, Fowkes, Antonow, Berthelot, EOS,接着功, 침투 작업, 그리고 확산 계수 |
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데이터 처리 |
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출력 방법 |
자동 생성, EXCEL, Word, 스펙트로그램 및 기타 보고서 형식으로 내보내기 또는 인쇄 가능 |
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