MDXN-25D 마스크 정렬기 , China MDXN-25D 마스크 정렬기 Manufacturers, Suppliers, Factory

제품 설명

이 장비는 우리 회사가 여러 대학 및 연구 기관에서 사용하는 리소그래피 머신의 특성을 고려하여 개발한 정밀 리소그래피 머신입니다. 주로 소형 및 중형 통합 회로, 반도체 구성 요소, 광전기기기, 그리고 표면 음향파 기기의 개발 및 생산에 사용됩니다.
장비의 원래 주요 기술 지표를 유지하는 전제하에, 우리는 장비의 일부 구조와 부품을 최적화했으며, 불필요한 기계 동작을 줄였고, 장비의 고장점이 가능한 한 최소화되도록 보장했으며, 장비의 작동은 매우 안정적이고 신뢰할 수 있습니다.

사양

주요 기술 매개 변수

1. 노출 방식: 단면.
2. 노출 영역: 110×110mm.
3. 노출 조도 균일성: ≤±3%.
4. 노출 강도: 0-30mw/cm2 가변식.
5. 자외선 빔 각도: ≤3°.
6. 자외선 중앙 파장: 365nm.
7. 자외선 광원 수명: ≥500 시간.
8. 전자 셔터 채용.
9. 노출 해상도: 1 μm;
10.현미경 스캐닝 범위: X:±15mm Y:±15mm;
11.정렬 범위: X,Y 조정 ±4mm; Q-방향 조정 ±3°;
12.각인 정확도: 1 μ 사용자의 '버전'과 '칩'은 국가 규정에 준수해야 하며,
환경, 온도, 습도 및 먼지는 엄격히 제어되어야 합니다. 수입된 포지티브 광저항을 사용하며, 균일한 광저항의 두께를 엄격히 제어할 수 있습니다. 또한 전후 공정이 선진화되어 있습니다;
13.분리량: 0~50 μm 조절 가능;
14.노출 방식: 접촉 노출로, 경접촉, 연접촉 및 미세력 접촉 노출을 달성할 수 있음; 15.스퀘어 찾기 방식: 공기