모델: MDST-6100
ICP 드라이 플라즈마 애셔는 디스컴(전처리 및 잔여물 제거), 폴리머 제거(PI, BCB, PBO), 이온 주입 후 포토레지스트 제거 등에 적합하며, 챔버는 8인치 샘플을 수용할 수 있고 4인치 및 6인치 크기도 호환 가능하다.
ICP 건식 플라즈마 포토레지스트 제거제
ICP 드라이 플라즈마 애셔는 디스컴(전처리 및 잔여물 제거), 폴리머 제거(PI, BCB, PBO), 이온 주입 후 포토레지스트 제거 등에 적합하며, 챔버는 8인치 샘플을 수용할 수 있고 4인치 및 6인치 크기도 호환 가능하다.
장비 외관은 지속적인 업그레이드 및 조정을 거칠 수 있으며, 실제 출하된 제품이 최종 기준이다.
장점:
플라즈마 이온화 및 분해 정도가 높음
플라즈마 처리 후 재현성이 높음
건식 에칭, 오염원 없음
나비벌브를 통해 압력과 온도를 제어함
고압에서 플라즈마를 유지할 수 있음
고전압원과 이온 발생기의 분리
마이크로웨이브 접합부와 자기 회로가 호환됨
고객 요구사항을 충족할 수 있음
공정 중 저온 유지
빠른 응답 속도와 짧은 응답 시간
모델 |
MDST6100 |
플라즈마 소스 |
전파 주파수 |
전력 |
1000W |
적용 범위 |
8인치(4인치 또는 6인치와 호환 가능) |
박스 크기 |
25 Pieces |
전체 치수 |
L1696×W2170×H2146mm |
시스템 제어 |
PLC |
재료 상자 시스템 |
자동 |
장비 실제 사진:
저작권 © 광저우 민더 하이테크 코.,Ltd. 모든 권리 보유
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