MDXN-25D4 고정밀 마스크 정렬기 , China MDXN-25D4 고정밀 마스크 정렬기 Manufacturers, Suppliers, Factory

MDXN-25D4 고정밀 마스크 정렬기

모델: MDXN-25D4

주로 소형 및 중형 집적회로, 반도체 부품, 표면 음파 소자(SAW 소자)의 개발 및 양산에 사용됨.

저비용, 간단한 장비로 교육, 연구 개발, 소규모 생산에 적합합니다.

제품 설명

이 장비는 주로 소형 및 중형 통합 회로, 반도체 부품 및 표면 음향파 장치의 개발 및 생산에 사용됩니다. 선진적인 평탄화 메커니즘과 낮은 평탄화 힘 때문에 이 기계는 다양한 유형의 기판의 노출뿐만 아니라 인듐 애스테이트 및 포스페이트 스틸과 같은 쉽게 깨지는 기판의 노출에도 적합하며, 비원형 및 작은 기판의 노출에도 사용할 수 있습니다.

MDXN-25D4 High Precision Mask Aligner manufacture

주요 기술 매개 변수

1. 노출 방식: 단면 노출
2. 노출 영역: 110X110mm;
3. 노출 균일성: ≥ 97%;
4. 노출 강도: 0-30mw/cm2 조절 가능;
5. 자외선 빔 각도: ≤ 3 °
6. 자외선의 중심 파장: 365nm;
7. 자외선 광원 수명: ≥ 20000 시간;(2년 보증)
8. 전자 셔터 채택;
9. 노출 해상도: 1 μ M
10. 카메라 시야 범위: ± 15mm Y: ± 15mm
11. 정렬 범위: x: ± 4mm Y: ± 4mm Q: ±3°.
12. 정렬 정확도: 1um (좋은 환경 조건 하에서)
13. 분리 거리 범위: 0-50um 조절 가능.
14. 노출 방법: 접촉 노출.(하드/소프트/마이크로 터치)
15. 균형 방법: 공기 부력.
16. 현미경 시스템: 이중 시야각 CCD 시스템, 물체 렌즈 1.6X~10X, 컴퓨터 영상 처리 시스템, 19" LCD 모니터; 총 확대 배율 91-570배. 물체 렌즈 거리: 50-120mm.
17. 마스크 크기: 127*127mm; 102*102mm
18. 기판 크기: Φ102mm; Φ76mm
19. 기판 두께: ≤1mm
20. 노출 시간: 0-999.9초 조절 가능.
21.전원: 220V 50Hz 1.5kw.
22.공기 원천?0.4Mpa
23.진공도: -0.07MPa~-0.09Mpa