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이 장치는 이온 전원 공급장치, 진공 시스템, 가스 공급 시스템, 자동 제어 시스템 등으로 구성되어 있습니다. 작동 원리는 진공 상태에서 플라즈마가 제어된 방식과 정량적으로 가스를 이온화하는 것입니다. 진공 펌프를 사용하여 작업실을 10–40Pa의 진공 상태로 배기한 후, 고주파 발생기의 작용 하에 가스를 이온화시켜 플라즈마(물질의 네 번째 상태)를 생성합니다. 이 플라즈마의 특징은 칼날형 글로우 방전의 높은 균일성이며, 사용되는 가스에 따라 청색에서 짙은 보라색까지 다양한 색상의 가시광선을 방출합니다. 처리 중 재료의 온도는 실온에 가깝습니다. 이러한 고활성 입자들이 처리 대상 표면과 상호작용함으로써, 표면 친수성, 발수성, 저마찰성, 고도 세정, 활성화, 에칭 등 다양한 표면 개질 효과를 얻을 수 있습니다.
플라즈마 처리의 장점: 1. 환경 보호 기술: 플라즈마 작용 공정은 기체-고체 상 간 일관된 반응으로, 물 자원을 소비하지 않으며, 화학 약품을 추가할 필요가 없고, 환경을 오염시키지 않는다. 2. 범용성: 처리 대상 기재의 종류에 관계없이 금속, 반도체, 산화물 및 대부분의 고분자 재료 등 다양한 재료를 잘 처리할 수 있다. 3. 저온 처리: 상온에 가까운 온도에서 수행되므로 특히 고분자 재료에 적합하며, 코로나 및 화염 처리 방식보다 저장 기간이 길고 표면 장력이 높다. 4. 강력한 기능 부여: 고분자 재료의 얕은 표면층(10–1000Å)만을 대상으로 하므로, 재료 고유의 특성을 유지하면서 하나 이상의 새로운 기능을 부여할 수 있다. 5. 저비용: 장치가 단순하고 조작 및 유지보수가 용이하며, 연속 운전이 가능하다. 일반적으로 몇 병의 가스로 수천 킬로그램의 세정액을 대체할 수 있으므로, 습식 세정보다 훨씬 낮은 세정 비용이 발생한다. 6. 전체 공정에 걸친 정밀한 공정 제어
