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Instrument de dépôt par magnétron à cible unique planétaire
Introduction : Cet équipement est un instrument de dépôt magnétron planétaire de bureau à cible unique. La moitié inférieure de la chambre est constituée d'une structure en acier inoxydable, tandis que la partie supérieure est en quartz de haute pureté. Cette conception prend en compte à la fois les performances sous vide et la fonction d'accueil de plateformes d'échantillons complexes. L'appareil présente un format de bureau, ce qui réduit considérablement les contraintes liées à l'emplacement d'installation. L'équipement est équipé d'une alimentation électrique continue (CC) et peut être utilisé pour le pulvérisation cathodique (« sputtering ») de métaux et d'autres matériaux conducteurs. Le système sous vide de cet équipement repose sur un groupe de pompes turbomoléculaires, offrant une vitesse de pompage élevée, un degré élevé de vide final et d'excellentes performances sous vide. Cet équipement possède une structure compacte, des fonctions complètes et une grande facilité d'utilisation. Il convient parfaitement à divers essais de dépôt.
