Modell: MDVES-300RJ
Anwendung: Schnecken-Instrumente, Sensoren und Infrarot-Detektoren.
MDVES-300RJ thermisch aktivierter Hochvakuum-Lötofen


Anwendung:
Schnecken-Instrumente, Sensoren und Infrarotdetektoren.



Eigenschaften:
1. Diese Anlage ist für die gleichzeitige Aktivierung und Versiegelung von Produkten mit Gettern konzipiert. Sie unterstützt Hochvakuum- und Hochtemperatur-Aktivierung sowie Hoch- und Niedertemperatur-Versiegelungsprozesse.
2. Verwendet einen speziellen Hubmechanismus und ein Wärmedämmungssystem, um wirksame Temperaturdifferenzen sicherzustellen, ohne den Sekundärdeckel-Versiegelungsprozess zu beeinträchtigen.
3. Kundenspezifische Werkzeuge und Vorrichtungen für verschiedene Produkte, geeignet für große Abmessungen und Massenfertigung, wodurch die Produktionseffizienz und -ausbeute gesteigert werden.
4. Die Produkte werden auf Trays platziert und mittels L-förmiger Spannklammern fixiert; die Positioniergenauigkeit beträgt sowohl vertikal als auch horizontal 0,02 mm.
5. Erreicht Hochvakuum bis zu 10^-5 Pa und gewährleistet somit eine perfekte Hochvakuum-, Hochtemperatur-Aktivierungs- und Schweißaktivierungskurve.
6. Geeignet für nicht gekühlte Infrarot-Detektionsprodukte, MEMS, Gyroskope und andere ähnliche Geräte.
Löteffekt:


Parameter:
Grundlagenrahmen | |
Grundlagenrahmen |
Ca. 1500 mm × 900 mm × 840 mm |
Kammerhöhe |
Ca. 500 mm bis 530 mm |
Beobachtungsfenster |
Mit einer Beobachtungsfenster an der Vorderseite der Kammer ausgestattet |
Gewicht |
Ca. 500kg |
Vakuumsystem | |
Vakuumpumpe |
Vorstufe-Trockenpumpe + Molekularpumpe |
Prozessvakuum |
10⁻⁵ Pa |
Aktiv-Atmosphäre |
350°C für ca. 15 Minuten oder länger |
Gasanlage | |
Prozessgas |
Stickstoff |
Heiz- und Kühlungssystem | |
Heizmethode |
Kontaktheizung, Heizrate von 120 °C/min unterschritten wird |
Kühlmethode |
Kontaktkühlung, Kühlrate von 120 °C/min unterschritten wird |
Heizplatte Material |
Legierungsbeschichtet |
Heizfläche |
270 mm – 300 mm (X-Achse) × 270 mm – 300 mm (Y-Achse) |
Heizungselement |
Spezielles Vakuum-Heizrohr; Temperaturerfassung durch Siemens-PLC-Module und PID-Regelung über die übergeordnete Steuerungssoftware |
Temperaturbereich |
Maximal 450 °C |
Temperaturregelgenauigkeit |
±1°C |
Temperaturgleichmäßigkeit |
±2,5°C |
Messkanäle |
4 Kanäle |
Leistungsanforderungen |
380 V, 50 Hz, Leistung ≤25kW |
Steuersystem | |
Steuerungsmethode |
Siemens-SPS + Industrie-PC |
Aufzugsplattform |
Wiederholgenauigkeit der Positionierung von 0,02 mm, Hubweg von 150 mm |
Hubplattform-Dichtung |
Einzigartige Faltenbalg-Dichtung an der Antriebswelle zur Erzielung einer Leckagefreiheit während der Wellenbewegung |
Spannplatte |
Graphit |
Anzahl der Spannvorrichtungen |
Anpassung gemäß Produktanforderungen |
Unterstützende Ausrüstung | |
Standardkonfiguration |
Vakuum-Trockenpumpe, Umwälzkühler, Molekularpumpe, Spannvorrichtungen, Hubplattform |
Umweltbedingungen | |
Gasquelle |
Gasdruck 0,5 bis 0,8 MPa |
Stromversorgung |
380 V, 50 Hz, Leistung ≤25kW |
Umgebungstemperatur |
15~35°C |
Relative Luftfeuchtigkeit |
≤75% |
Schema der Spannvorrichtung:




Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved