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Thermisch aktivierter Hochvakuum-Lötofen

Modell: MDVES-300RJ

Anwendung: Schnecken-Instrumente, Sensoren und Infrarot-Detektoren.

MDVES-300RJ thermisch aktivierter Hochvakuum-Lötofen

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Anwendung:

Schnecken-Instrumente, Sensoren und Infrarotdetektoren.

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Eigenschaften:

1. Diese Anlage ist für die gleichzeitige Aktivierung und Versiegelung von Produkten mit Gettern konzipiert. Sie unterstützt Hochvakuum- und Hochtemperatur-Aktivierung sowie Hoch- und Niedertemperatur-Versiegelungsprozesse.

2. Verwendet einen speziellen Hubmechanismus und ein Wärmedämmungssystem, um wirksame Temperaturdifferenzen sicherzustellen, ohne den Sekundärdeckel-Versiegelungsprozess zu beeinträchtigen.

3. Kundenspezifische Werkzeuge und Vorrichtungen für verschiedene Produkte, geeignet für große Abmessungen und Massenfertigung, wodurch die Produktionseffizienz und -ausbeute gesteigert werden.

4. Die Produkte werden auf Trays platziert und mittels L-förmiger Spannklammern fixiert; die Positioniergenauigkeit beträgt sowohl vertikal als auch horizontal 0,02 mm.

5. Erreicht Hochvakuum bis zu 10^-5 Pa und gewährleistet somit eine perfekte Hochvakuum-, Hochtemperatur-Aktivierungs- und Schweißaktivierungskurve.

6. Geeignet für nicht gekühlte Infrarot-Detektionsprodukte, MEMS, Gyroskope und andere ähnliche Geräte.

Löteffekt:

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Parameter:

Grundlagenrahmen

Grundlagenrahmen

Ca. 1500 mm × 900 mm × 840 mm

Kammerhöhe

Ca. 500 mm bis 530 mm

Beobachtungsfenster

Mit einer Beobachtungsfenster an der Vorderseite der Kammer ausgestattet

Gewicht

Ca. 500kg

Vakuumsystem

Vakuumpumpe

Vorstufe-Trockenpumpe + Molekularpumpe

Prozessvakuum

10⁻⁵ Pa

Aktiv-Atmosphäre

350°C für ca. 15 Minuten oder länger

Gasanlage

Prozessgas

Stickstoff

Heiz- und Kühlungssystem

Heizmethode

Kontaktheizung, Heizrate von 120 °C/min unterschritten wird

Kühlmethode

Kontaktkühlung, Kühlrate von 120 °C/min unterschritten wird

Heizplatte Material

Legierungsbeschichtet

Heizfläche

270 mm – 300 mm (X-Achse) × 270 mm – 300 mm (Y-Achse)

Heizungselement

Spezielles Vakuum-Heizrohr; Temperaturerfassung durch Siemens-PLC-Module und PID-Regelung über die übergeordnete Steuerungssoftware

Temperaturbereich

Maximal 450 °C

Temperaturregelgenauigkeit

±1°C

Temperaturgleichmäßigkeit

±2,5°C

Messkanäle

4 Kanäle

Leistungsanforderungen

380 V, 50 Hz, Leistung ≤25kW

Steuersystem

Steuerungsmethode

Siemens-SPS + Industrie-PC

Aufzugsplattform

Wiederholgenauigkeit der Positionierung von 0,02 mm, Hubweg von 150 mm

Hubplattform-Dichtung

Einzigartige Faltenbalg-Dichtung an der Antriebswelle zur Erzielung einer Leckagefreiheit während der Wellenbewegung

Spannplatte

Graphit

Anzahl der Spannvorrichtungen

Anpassung gemäß Produktanforderungen

Unterstützende Ausrüstung

Standardkonfiguration

Vakuum-Trockenpumpe, Umwälzkühler, Molekularpumpe, Spannvorrichtungen, Hubplattform

Umweltbedingungen

Gasquelle

Gasdruck 0,5 bis 0,8 MPa

Stromversorgung

380 V, 50 Hz, Leistung ≤25kW

Umgebungstemperatur

15~35°C

Relative Luftfeuchtigkeit

≤75%

Schema der Spannvorrichtung:

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Anfrage

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