MDAM-CMP100/150 Präzisions-Schleif- und Poliermaschine, das Hauptgerät und alle Ersatzteile bestehen aus hoch korrosionsbeständigen Materialien. Die gesamte Maschine ist korrosionsfest, stabil, verschleißfest und rostfrei, geeignet für chemisch-mechanisches Schleifen und Polieren verschiedener Halbleitermaterialien. Der Arbeitsbereich ist von der Anzeige- und Steuerungszone getrennt und wird mit einem Touchscreen-Steuersystem digital gesteuert. Sie ist CNC-gesteuert, speicherfähig und aufrufbar.
Das Gerätesystem verfügt über eine Timerfunktion, die für 10 Stunden kontinuierlich arbeiten kann und die Geschwindigkeit der Schleifscheibe steuern kann. Das Bedienfeld befindet sich außerhalb des Arbeitsbereichs, um das Aufspritzen von Schleiflösung auf das Bedienfeld zu verhindern. Alle Parameter des Geräts können auf dem Touchscreen eingestellt werden. Die Prozessparameter des Geräts haben Speicher- und Abruf-Funktionen, um Konsistenz und Wiederholbarkeit des Prozesses sicherzustellen. Das Wafer-Probe wird durch Vakuumpumpe auf der Unterseite der Halterung adsorbiert und ist mit einer ölfreien Vakuumpumpe ausgestattet, die eine unabhängige Anti-Rücksaug-Funktion hat.
Das Horizontalrotationsantriebssystem des Haltegeräts für die Probenkonfiguration verfügt über eine Schwingfunktion, mit einem einstellbaren Schwingbereich von 0-100%. Die Schwingamplitude und -frequenzgeschwindigkeit können über das Bedienfeld genau eingestellt werden. Das Haltegerät ist mit einem unabhängigen Antriebssystem für die Rotation ausgestattet, mit einem einstellbaren Geschwindigkeitsbereich von 0-120 Umdrehungen pro Minute. Diese funktionale Gestaltung sorgt dafür, dass die Probe während des Schleif- und Polierprozesses vollständig geschwenkt und poliert wird, was die Polierkapazität und -effizienz der Anlage erheblich verbessert.
Das Haltegerät ist mit einer digitalen Dickenüberwachungstabelle ausgestattet, die eine Überwachungsgenauigkeit von 1 μm aufweist. Der Druck des Haltegeräts auf das Wafersample ist kontinuierlich einstellbar, mit einem Druckbereich von 0-3,5kg und einer Genauigkeit von 2g/cm², und ist mit einem Druckmessgerät ausgestattet.
Der Betrieb der Schleif- und Polierscheibe wird durch den Hauptantrieb gesteuert; die Scheibendrehzahl ist stufenlos von 0 bis 120 Umdrehungen pro Minute einstellbar. Dieser breite Drehzahlbereich gewährleistet effektiv die optimale Bearbeitungsgeschwindigkeit für Proben aus Materialien unterschiedlicher Härte und Größe und ermöglicht so höhere Prozessindikatoren.
Der Austausch von Schleifscheiben und Polierscheiben ist einfach und schnell; eingebettete Scheiben ermöglichen es der Anlage, rasch vom Schleif- zum Polierprozess überzugehen und reduzieren so die Prozesszeit erheblich. Außerdem ist die Schleifscheibe mit einem Scheibenreparaturblock ausgestattet, um eine gute Ebenheit der Schleifscheibe sicherzustellen.