Einführung:
Diese Anlage besteht hauptsächlich aus einer Vakuumkammer aus Edelstahl, einem Magnetron-Sputter-Target, einer Verdampfungsbeschichtungseinrichtung, einem Probentisch zur Aufnahme der Proben, einer Vakuumpumpeinheit, einem Vakuummessgerät, einem Luftzuführsystem und einem Steuerungssystem. Die Haupteinheit der Anlage wird über einen Touchscreen bedient und mittels eines Temperaturregelgeräts überwacht. Ihre digitale Parameter-Schnittstelle und der automatisierte Betrieb bieten den Anwendern eine hervorragende Forschungs- und Entwicklungsplattform. Die Vakuumkammer verfügt über ein Target-Anordnungssystem am Boden, und der Probentisch besitzt Heiz- und Drehfunktionen, wodurch die Beschichtung gleichmäßiger erfolgt. Das Vakuumerzeugungssystem der Anlage besteht aus einer zweistufigen Vakuumpumpengruppe. Die Vorstufenpumpe ist eine Hochgeschwindigkeits-Mechanikpumpe, die die Zeit vom Normaldruck bis zum Niedervakuum wirksam verkürzt. Die Hauptpumpe ist eine Turbomolekularpumpe mit hoher Fördergeschwindigkeit und schnellerer Vakuumerzeugung. Das gesamte Vakuumerzeugungssystem ist sauber und schnell.
Anwendung:
Kann zur Herstellung ein- oder mehrschichtiger ferroelektrischer Dünnfilme, leitfähiger Filme, Legierungsfilme, Halbleiterfilme, keramischer Filme, Dielektrikumfilme, optischer Filme usw. eingesetzt werden.