Le point
Introduction : L'instrument de dépôt par pulvérisation magnétron est un équipement de dépôt par pulvérisation magnétron économique, développé en interne par notre société, qui présente les caractéristiques de normalisation, de modularité et de personnalisation. Les cibles magnétron sont disponibles en diamètres de 1 pouce, 2 pouces et 3 pouces, permettant aux clients de choisir en fonction de la taille du substrat à déposer ; l’alimentation électrique est une source d’alimentation continue (CC) haute puissance de 500 W, adaptée au dépôt par pulvérisation de métaux à haute énergie. Selon les exigences expérimentales, d’autres sources d’alimentation CC ou à haute fréquence (RF) peuvent également être sélectionnées afin de réaliser des opérations de dépôt sur divers matériaux.
Application : Il permet de préparer des couches minces ferroélectriques simples ou multicouches, des couches conductrices, des couches d’alliages, des couches semi-conductrices, des couches céramiques, des couches diélectriques, des couches optiques, etc.