Introduction :
L'équipement de dépôt par pulvérisation magnétron est un instrument de dépôt spécialisé pour laboratoire développé par notre entreprise. Cet équipement peut être équipé d'une alimentation continue (CC) et d'une alimentation haute fréquence (RF). La puissance varie de 500 W à 1000 W. Par rapport à la pulvérisation plasma conventionnelle, la pulvérisation magnétron présente les avantages d'une énergie élevée, d'une vitesse élevée, d’un taux de dépôt élevé et d’une faible élévation de température de l’échantillon. La cible magnétron est dotée d’une couche intermédiaire refroidie à l’eau. Le groupe frigorifique permet d’évacuer efficacement la chaleur et d’éviter l’accumulation de chaleur à la surface de la cible, ce qui garantit un fonctionnement stable sur une longue durée du procédé de dépôt magnétron. Grâce à une conception compacte, un équilibre optimal entre encombrement et performances a été atteint, offrant un aspect esthétique et des fonctions complètes. L’ensemble de la machine est commandé via un écran tactile et un programme de dépôt à une touche intégré, ce qui en facilite grandement l’utilisation et en fait un équipement idéal pour la préparation de couches minces en laboratoire.
Application :
Il permet de préparer des couches minces ferroélectriques simples ou multicouches, des couches conductrices, des couches d’alliage, des couches semi-conductrices, des couches céramiques, des couches diélectriques, des couches optiques, etc.