Le point
Introduction : L'appareil de dépôt par pulvérisation cathodique à cible unique est un équipement de dépôt par pulvérisation cathodique économique, développé en interne par notre société. Grâce à une conception compacte, il allie parfaitement encombrement réduit et performances élevées, tout en offrant un aspect esthétique soigné et des fonctions complètes. L’ensemble de la machine est commandé via un écran tactile doté d’un programme de dépôt « un bouton-poussoir », simple et intuitif à utiliser, ce qui en fait un équipement idéal pour la préparation de couches minces en laboratoire. La cible unique est une cible magnétique puissante, alimentée par une source d’alimentation continue de 1500 W, adaptée à la préparation de films métalliques. Ce produit peut être équipé d’un ordinateur industriel tout-en-un permettant de piloter l’ensemble du système. Le logiciel informatique permet de réaliser la plupart des fonctions, notamment le contrôle du groupe de pompes à vide et celui de l’alimentation de pulvérisation, ce qui améliore encore davantage l’efficacité de vos expérimentations.
Application : Il permet de préparer des couches minces ferroélectriques simples ou multicouches, des couches conductrices, des couches d’alliages, des couches semi-conductrices, des couches céramiques, des couches diélectriques, des couches optiques, etc.