Introduction :
L'appareil de dépôt par pulvérisation cathodique à cible unique est un équipement de dépôt par pulvérisation cathodique économique, développé en interne par notre société. Grâce à une conception compacte, il allie compacité et performances, avec une apparence élégante et des fonctions complètes. L’ensemble de la machine est commandé par un écran tactile, doté d’un programme de dépôt à une touche intégré, simple et facile à utiliser, ce qui en fait un équipement idéal pour la préparation de couches minces en laboratoire. La cible unique est une cible à fort champ magnétique, et l’alimentation électrique est une source de courant continu de 1500 W, adaptée à la préparation de films métalliques. Ce produit peut être équipé d’un ordinateur industriel tout-en-un pour le contrôle du système. Le logiciel informatique permet de réaliser la plupart des fonctions, notamment la commande du groupe de pompes à vide et celle de l’alimentation électrique de pulvérisation, ce qui améliore encore davantage l’efficacité de vos expériences.
Application :
Il permet de préparer des couches minces ferroélectriques simples ou multicouches, des couches conductrices, des couches d’alliage, des couches semi-conductrices, des couches céramiques, des couches diélectriques, des couches optiques, etc.