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Introduction : Cet équipement est principalement composé d'une chambre à vide en acier inoxydable, d'une cible de pulvérisation magnétronique, d'un dispositif de dépôt par évaporation, d'une platine porte-échantillons, d'un groupe de pompes à vide, d'un jauge de mesure du vide, d'un système d'admission d'air et d'un système de commande. L'unité principale de l'équipement est pilotée par un écran tactile et surveillée par un thermomètre de régulation de température. Son interface numérique des paramètres et son fonctionnement automatisé offrent aux utilisateurs une excellente plateforme de recherche et développement. La chambre à vide adopte une conception avec cible située en position basse, et la platine porte-échantillons dispose de fonctions de chauffage et de rotation, ce qui permet d'obtenir un effet de dépôt plus uniforme. Le système d'obtention du vide de cet équipement utilise un groupe de pompes à vide à deux étages : la pompe de prévide est une pompe mécanique à haute vitesse, qui réduit efficacement le temps nécessaire pour passer de la pression atmosphérique au vide faible ; la pompe principale est une pompe turbomoléculaire présentant une grande vitesse de pompage et permettant une obtention plus rapide du vide. L'ensemble du système d'obtention du vide est propre et rapide.
Application : Il permet de préparer des couches minces ferroélectriques simples ou multicouches, des couches conductrices, des couches d’alliages, des couches semi-conductrices, des couches céramiques, des couches diélectriques, des couches optiques, etc.
