Термически активированная печь для пайки в высоком вакууме , China Термически активированная печь для пайки в высоком вакууме Manufacturers, Suppliers, Factory

Термически активированная печь для пайки в высоком вакууме

Модель: MDVES-300RJ

Применение: приборы для измерения скорости вращения, датчики и инфракрасные детекторы.

Термически активируемая высоковакуумная печь для пайки MDVES-300RJ

微信图片_20261010100123.jpg 微信图片_20261010100114.jpg

Применение:

Приборы, датчики и инфракрасные детекторы Snail.

Особенности:

1. Данное оборудование предназначено для одновременной активации и герметизации изделий, содержащих геттеры. Поддерживает активацию в условиях высокого вакуума и при высоких температурах, а также процессы герметизации при высоких и низких температурах.

2. Использует специализированный подъёмный механизм и систему тепловой изоляции для обеспечения эффективного перепада температур без влияния на процесс герметизации вторичной крышки.

3. Индивидуальные технологические приспособления для различных изделий, способные обрабатывать крупногабаритные детали и поддерживать массовое производство, что повышает эффективность и объёмы выпуска.

4. Изделия размещаются на лотках и фиксируются с помощью Г-образных зажимов; точность позиционирования составляет 0,02 мм как по вертикали, так и по горизонтали.

5. Обеспечивает достижение высокого вакуума до 10^-5 Па, гарантируя идеальный высоковакуумный режим, активацию при высоких температурах и кривые активации при сварке.

6. Подходит для некондиционированных инфракрасных детекторов, МЭМС, гироскопов и других подобных устройств.

Эффект пайки:

Параметры:

Базовый каркас
Базовый каркас	Примерно 1500 мм × 900 мм × 840 мм
Высота камеры	Примерно 500–530 мм
Окно наблюдения	Оснащён смотровым окном спереди камеры
Вес	Примерно 500 кг
Вакуумная система
Вакуумный насос	Предварительный сухой насос + молекулярный насос
Рабочий вакуум	10⁻⁵ Па
Среда активации	350°C примерно в течение 15 минут или более
Газовая система
Процессный газ	Азот
Система нагрева и охлаждения
Метод нагрева	Контактный нагрев, скорость нагрева 120 °C/мин
Метод охлаждения	Контактное охлаждение, скорость охлаждения 120 °C/мин
Материал нагревательной плиты	С покрытием из сплава
Теплообменная площадь	270 мм – 300 мм (по оси X) × 270 мм – 300 мм (по оси Y)
Нагревательный элемент	Специальная вакуумная нагревательная трубка; температура измеряется модулями ПЛК Siemens и регулируется по алгоритму ПИД с помощью верхнего компьютера
Диапазон температур	Максимум 450 °C
Точность регулирования температуры	±1°C
Однородность температуры	±2,5°С
Каналы обнаружения	4 канала
Требования к мощности	380 В, 50 Гц, мощность ≤25кВт
Система управления
Метод управления	ПЛК Siemens + промышленный компьютер
Подъемная платформа	Точность повторного позиционирования 0,02 мм, ход подъёма 150 мм
Уплотнение подъёмной платформы	Уникальное уплотнение в виде гармошки на валу привода для обеспечения нулевой утечки при перемещении вала
Технологическая плита	Графит
Количество технологических приспособлений	Изготавливается по индивидуальному заказу с учётом требований к изделию
Вспомогательное оборудование
Стандартная конфигурация	Вакуумный сухой насос, циркуляционный охладитель, молекулярный насос, технологические приспособления, подъёмная платформа
Требования к окружающей среде
Газовый источник	Давление газа 0,5–0,8 МПа
Питание	380 В, 50 Гц, мощность ≤25кВт
Температура окружающей среды	15~35°C
Относительная влажность	≤75%