Corte a laser invisível, como uma solução para o corte a laser de wafers, evita eficazmente os problemas do corte com disco abrasivo. O corte a laser invisível é realizado moldando um único pulso de laser pulsado por meio de meios ópticos, permitindo que ele passe pela superfície do material e se foque no interior do material. Na área focal, a densidade de energia é alta, formando um efeito de absorção não linear de múltiplos fótons, que modifica o material criando rachaduras. Cada pulso do laser age em distâncias iguais, formando danos equidistantes que criam uma camada modificada dentro do material. Na posição da camada modificada, as ligações moleculares do material são quebradas, e as conexões do material ficam frágeis e fáceis de separar. Após o corte, o produto é completamente separado esticando o filme portador, criando espaços entre os chips. Este método de processamento evita danos causados por contato mecânico direto e enxágue com água pura. Atualmente, a tecnologia de corte a laser invisível pode ser aplicada a safira/vidro/silício e vários wafers de semicondutores compostos.