Introdução:
O instrumento de revestimento por pulverização catódica magnetrônica é um equipamento de revestimento por pulverização catódica magnetrônica de custo eficaz, desenvolvido independentemente pela nossa empresa, que apresenta as características de padronização, modularização e personalização. Os alvos magnetrônicos estão disponíveis nos diâmetros de 1 polegada, 2 polegadas e 3 polegadas, permitindo que os clientes os escolham conforme o tamanho do substrato a ser revestido; a fonte de alimentação é uma fonte de corrente contínua (CC) de alta potência de 500 W, adequada para revestimento por pulverização catódica de metais com alta energia. De acordo com os requisitos experimentais, também podem ser selecionadas outras especificações de fontes de alimentação de CC ou de radiofrequência (RF), possibilitando a realização de operações de revestimento com diversos materiais.
Aplicação:
Pode ser utilizada na preparação de filmes finos ferroelétricos monocamada ou multicamada, filmes condutores, filmes de ligas, filmes semicondutores, filmes cerâmicos, filmes dielétricos, filmes ópticos, etc.