Destaque
Introdução: O equipamento de deposição por pulverização catódica com alvo único é um equipamento de deposição por pulverização catódica de custo eficaz, desenvolvido independentemente pela nossa empresa. Após um projeto compacto, ele atinge um equilíbrio entre volume e desempenho, com aparência elegante e funções completas. A máquina inteira é controlada por uma tela sensível ao toque, com um programa integrado de deposição em um único clique, simples e fácil de operar, sendo, portanto, um equipamento ideal para a preparação laboratorial de filmes finos. O alvo único é um alvo magnético forte, e a fonte de alimentação é uma fonte CC de 1500 W, podendo ser utilizada na preparação de filmes metálicos. Este produto pode ser equipado com um computador industrial de controle integrado, capaz de controlar todo o sistema. O programa do computador pode realizar a maioria das funções, tais como o controle do grupo de bombas de vácuo e o controle da fonte de alimentação para pulverização catódica, o que pode melhorar ainda mais a eficiência dos seus experimentos.
Aplicação: Pode ser utilizado para preparar filmes finos ferroelétricos monocamada ou multicamada, filmes condutores, filmes de ligas, filmes semicondutores, filmes cerâmicos, filmes dielétricos, filmes ópticos, etc.