Introdução:
O instrumento de revestimento por pulverização catódica de alvo duplo é um instrumento de revestimento específico para laboratório, desenvolvido pela nossa empresa, com duas posições de alvo. O equipamento é dotado de uma fonte de alimentação CC e de uma fonte de alimentação de radiofrequência. Em comparação com a pulverização por plasma convencional, a pulverização catódica apresenta as vantagens de alta energia e alta velocidade, elevada taxa de deposição de revestimento e constitui uma típica pulverização de alta velocidade e baixa temperatura. O alvo catódico é equipado com uma camada intermédia refrigerada a água. O refrigerador de água pode remover eficazmente o calor e evitar o acúmulo térmico na superfície do alvo, permitindo que o processo de revestimento catódico opere de forma estável durante longos períodos. A platina de amostras deste modelo adota um design de movimento alternado, com uma haste de empurrão magnética acoplada no lado esquerdo, capaz de deslocar a platina de amostras para a esquerda e para a direita. Todo o equipamento é controlado por uma tela sensível ao toque, com um programa integrado de revestimento com um único toque, simples e fácil de operar, sendo, portanto, um equipamento ideal para a preparação de filmes finos em laboratório.
Aplicação:
Pode ser utilizada na preparação de filmes finos ferroelétricos monocamada ou multicamada, filmes condutores, filmes de ligas, filmes semicondutores, filmes cerâmicos, filmes dielétricos, filmes ópticos, etc.