Destaque
Introdução: Este equipamento é um instrumento de deposição por magnetron de dois alvos. Ele é equipado com dois alvos de magnetron e duas fontes de alimentação CC. Pode ser utilizado para revestir filmes metálicos condutores multicamada. Ao mesmo tempo, o equipamento é composto por duas partes: a câmara principal e a câmara de transição. A câmara de transição é equipada com uma haste magnética empurradora, e uma válvula de comporta de vácuo está instalada entre as duas câmaras. O usuário pode carregar amostras na câmara de transição e realizar o pré-vácuo enquanto ocorre a pulverização catódica na câmara principal. Após a conclusão da pulverização catódica na câmara principal, a amostra pode ser empurrada até a platina de amostras da câmara principal por meio da haste magnética empurradora. Esse projeto reduz o número de ciclos de evacuação e ventilação da câmara principal, o que não só economiza tempo de forma eficaz, como também garante um vácuo local melhor e melhora efetivamente a qualidade do revestimento.
Aplicação: Pode ser utilizado para preparar filmes finos ferroelétricos monocamada ou multicamada, filmes condutores, filmes de ligas, filmes semicondutores, filmes cerâmicos, filmes dielétricos, filmes ópticos, etc.