Destaque
Introdução:
O revestidor por pulverização catódica de alvo duplo é um revestidor específico para laboratório desenvolvido pela nossa empresa. O equipamento pode ser equipado com uma fonte de alimentação CC e uma fonte de alimentação RF, com potência variando de 500 W a 1000 W. Em comparação com a pulverização por plasma convencional, a pulverização catódica apresenta as vantagens de alta energia e alta velocidade, elevada taxa de deposição de revestimento e baixa elevação da temperatura da amostra. Trata-se, portanto, de uma técnica típica de pulverização de alta velocidade e baixa temperatura. O alvo catódico é dotado de uma camada intermédia refrigerada a água. O refrigerador de água consegue dissipar eficazmente o calor e evitar sua acumulação na superfície do alvo, permitindo que o processo de revestimento catódico opere de forma estável por longos períodos. O equipamento foi projetado de forma compacta para equilibrar volume e desempenho, com aparência elegante e funções abrangentes. A máquina inteira é controlada por uma tela sensível ao toque, com um programa integrado de revestimento com um único toque, tornando sua operação simples e intuitiva. É um equipamento ideal para a preparação de filmes finos em laboratório.
Aplicação: Pode ser utilizado para preparar filmes finos ferroelétricos monocamada ou multicamada, filmes condutores, filmes de ligas, filmes semicondutores, filmes cerâmicos, filmes dielétricos, filmes ópticos, etc.