Introdução: Este equipamento é composto principalmente por uma câmara de vácuo em aço inoxidável, um alvo de pulverização catódica (magnetron sputtering), um dispositivo de deposição por evaporação, uma mesa de amostras para posicionamento das amostras, um conjunto de bombas de vácuo, um medidor de vácuo, um sistema de admissão de ar e um sistema de controle. A unidade principal do equipamento é operada por meio de uma tela sensível ao toque e monitorada por um medidor de controle de temperatura. Sua interface digital de parâmetros e sua operação automatizada oferecem aos usuários uma excelente plataforma para pesquisa e desenvolvimento (P&D). A câmara de vácuo adota um design com alvo na parte inferior, e a mesa de amostras possui funções de aquecimento e rotação, o que torna o efeito de revestimento mais uniforme. O sistema de aquisição de vácuo do equipamento emprega um grupo de bombas de vácuo de duas etapas. A bomba de pré-estágio é uma bomba mecânica de alta velocidade, que reduz eficazmente o tempo necessário para passar da pressão atmosférica ao vácuo baixo. A bomba principal é uma bomba molecular turbo, com alta velocidade de bombeamento e maior rapidez na aquisição do vácuo. O sistema global de aquisição de vácuo é limpo e rápido.
Aplicação: Pode ser utilizado para preparar filmes finos ferroelétricos monocamada ou multicamada, filmes condutores, filmes de ligas, filmes semicondutores, filmes cerâmicos, filmes dielétricos, filmes ópticos, etc.
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