Instrumento de Revestimento por Magnetron Desktop com Alvo para Baixo
Introdução: Este equipamento é um instrumento de deposição por magnetron de alvo único de bancada. O equipamento é miniaturizado, limitando sua aparência ao nível de bancada, reduzindo significativamente os requisitos de espaço para instalação. O equipamento é dotado de uma fonte de alimentação CC, que pode ser utilizada para a pulverização catódica de materiais metálicos, apresentando as características de alta velocidade e baixa elevação de temperatura. A câmara de vácuo adota um design de alvo montado na parte inferior como um todo, o que proporciona um excelente efeito de pulverização catódica, menor contaminação por impurezas e proteção máxima da amostra.
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