Introdução:
O equipamento foi miniaturizado, mantendo a câmara de aço inoxidável de alto vácuo, ao mesmo tempo que se simplificaram outros mecanismos, limitando a aparência do equipamento ao nível de mesa, reduzindo drasticamente os requisitos de espaço para instalação. O equipamento é dotado de uma fonte de alimentação CC e de uma fonte de alimentação RF. O alvo CC pode ser utilizado para a pulverização catódica de metais e outros materiais condutores, enquanto a fonte de alimentação RF pode ser utilizada para a pulverização catódica de diversos não metais e óxidos metálicos. O sistema de vácuo do equipamento emprega uma bomba de vácuo totalmente importada, com velocidade de bombeamento rápida, elevado grau de vácuo final e excelente desempenho sob vácuo. Este equipamento possui estrutura compacta, funções completas e facilidade de operação, tornando-o muito adequado para diversos ensaios de deposição de revestimentos.
Aplicação:
Pode ser utilizado na preparação de filmes finos metálicos, em áreas eletrônicas, ópticas e em cerâmicas especiais, bem como na preparação de amostras para microscopia eletrônica de varredura (MEV) em laboratório.