Removedor Seco de Fotolito por Plasma ICP , China Removedor Seco de Fotolito por Plasma ICP Manufacturers, Suppliers, Factory

Removedor Seco de Fotolito por Plasma ICP

O removedor seco de fotolito por plasma ICP é utilizado principalmente para remoção de polímeros, cinerização (ashing), remoção de resíduos superficiais (descumming), remoção de fotolito após implantação iônica e limpeza de resíduos superficiais. A câmara MDST3100 acomoda amostras de 4 a 8 polegadas com capacidade de processamento de uma única pastilha por vez, enquanto a câmara MDST3200 acomoda amostras de 4 a 8 polegadas com capacidade de duas pastilhas por lote.

A aparência do equipamento está sujeita a atualizações e ajustes contínuos; o produto efetivamente enviado prevalece.

头图4.jpg

工艺流程.png(5c78296a74).jpg 去除光刻胶去胶机 (5)(130d03181e).jpg

Lavação

Remoção de Polímero

DESCUM

Limpeza a seco da camada de máscara rígida

Remoção de fotolito após implantação iônica

Remoção de resíduos na superfície

Remoção de fotolito no processo BAW/SAW

Limpeza a seco da camada de filme gráfico antirreflexo

Limpeza da superfície após a etching

Vantagens:

Alto grau de ionização e decomposição do plasma

Após o tratamento com plasma, a reprodutibilidade é elevada

Gravação a seco, sem fonte de poluição

Controle de pressão e temperatura por meio de válvulas borboleta

Capaz de manter o plasma em alta pressão

Separação entre a Fonte de Alta Tensão e o Gerador de Íons

Junção de micro-ondas e circuito magnético são compatíveis

Capaz de atender aos requisitos do cliente

Baixa temperatura durante o processamento

Velocidade de resposta rápida e tempo de resposta curto

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Modelo		MDST3100	MDST3200
Fonte de plasma		RF	RF
Potência	ICP	1000 W	1000 W
	BIAS	NA	NA
Escopo de Aplicação		4 a 8 polegadas	4 a 8 polegadas
Número de lâminas processadas numa única operação		1	2
Dimensões gerais		1300x1190x1847 mm	1300x1650x1850 mm
Controlo do sistema		Sistema de Controle Industrial
grau de automação		Automático