전기 난방 |
챔버 (싱글 캐비티) |
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해당 없음 |
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하부 전극 방식 |
242mm |
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공정 온도 범위 |
-20-100°C |
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플라즈마 소스 |
600W-1000W |
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공정 압력 게이지 크기 |
100mtorr |
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진공 시스템 |
분자 펌프 장치, 드라이 펌프 시스템, 공정 챔버 |
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식각 챔버 수 |
단일 구멍 |
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클램프 |
유형 |
크기/mm |
재질 |
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해당 없음 |
8、6、4、3、2 |
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엔드 포인트 검출기 |
선택 |
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유도 결합 플라즈마 |
선택 |
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에칭 재료 |
Si、Sio, Sin、Sau、Pt、Al |
식각 속도 |
>20nm/min (Si02 소재) 소재별 식각 속도는 동일하지 않음 |
분산 제어 |
>85° |
로딩 방법 |
오픈 로딩 |
MFC가 제어하는 가스 배관 |
총 6개의 가스 탱크가 사용 가능함 |
헬륨 백사이드 냉각 옵션 |
예 |
인간-기계 인터페이스 |
터치스크린 조작 방식 |
작동 모드 |
완전 자동 모드, 비완전 자동 모드 |
자동화 장치의 선택 및 설정 |
수입 부품 또는 국산 부품 중 선택 가능 |
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