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Introducción: Este equipo está compuesto principalmente por una cámara de vacío de acero inoxidable, un objetivo de pulverización catódica (magnetron sputtering), un dispositivo de recubrimiento por evaporación, una mesa de muestras para colocar las muestras, un grupo de bombas de vacío, un medidor de vacío, un sistema de admisión de aire y un sistema de control. La unidad principal del equipo se opera mediante una pantalla táctil y se supervisa mediante un medidor de control de temperatura. Su interfaz digital de parámetros y su funcionamiento automatizado ofrecen a los usuarios una excelente plataforma para I+D. La cámara de vacío adopta un diseño con el objetivo en la parte inferior, y la mesa de muestras dispone de funciones de calentamiento y rotación, lo que permite lograr un efecto de recubrimiento más uniforme. El sistema de obtención de vacío del equipo utiliza un grupo de bombas de vacío de dos etapas: la bomba de etapa previa es una bomba mecánica de alta velocidad, que reduce eficazmente el tiempo necesario para pasar desde la presión atmosférica hasta el vacío bajo; la bomba principal es una bomba molecular de turbocompresor, con alta velocidad de bombeo y una adquisición de vacío más rápida. En conjunto, el sistema de obtención de vacío es limpio y rápido.
Aplicación: se puede utilizar para preparar películas delgadas ferroeléctricas monocapa o multicapa, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, etc.
