




Material de las virutas |
Si y otros |
Tamaño del chip |
espesor de 0,3~30 mm: 0,05 ~1,0 [mm] |
Métodos de suministro |
bandecilla de 2 y 4 pulgadas (bandecilla waffle, gel-pak, bandecilla metálica, etc.) |
Material de sustrato |
SUS, Cu, Si, pieza de trabajo, cerámica y otros |
Cantidad de bandejas |
bandeja de 2 pulgadas hasta 8, o bandeja de 4 pulgadas hasta 2; La bandeja se puede configurar libremente para chip o sustrato. |
Tamaño exterior del sustrato |
15~50 [mm] y oblea de 8 [pulgadas] |
Espesor del sustrato |
Placa base plana de 0,1~3,0[mm]; Placa inferior en forma de tubo: A:0,1~2[mm] B:≤5[mm], C:≤7[mm] Distancia mínima desde el chip hasta la pared interna del recipiente D: 21 mm |
UPH |
Aproximadamente 12 [seg/ciclo] [Condiciones del tiempo de ciclo] |
Eje Z |
Resolución |
0,1[μm] |
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Rango móvil |
200[mm] |
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Velocidad |
Máx. 250[mm/s] |
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eje θ |
Resolución |
0.000225[°] |
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Rango móvil |
±5[°] |
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Sujeción de la pieza |
Método de succión al vacío |
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Cambio de receta |
Método ATC (cambiador automático de herramientas) Número máximo de utillajes a cambiar: 20x20[mm] 6 tipos *2 tipos cuando es 30x30[mm] (opcional) usado. |
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Rango de ajuste |
Rango de baja carga: 0,049 a 4,9[N] (5 a 500[g]) Rango de alta carga: 4,9 a 1000 [N] (0,5 a 102 [kg]) * No es posible un control de carga que cubra ambos rangos. * El cabezal ultrasónico es solo para la zona de alta carga |
Precisión de presión |
Rango de baja carga: ±0,0098 [N] (1 [g]) Rango de alta carga: ±5 [%] (3σ) * Ambas precisiones son para la carga real en condiciones ambientales (RT). |
Método de calentamiento |
Método de calor pulsante (calentador cerámico) |
Temperatura configurada |
RT~450[°C] (1[°C] paso) |
Velocidad de elevación de temperatura |
Max80[°C/sec] (sin accesorio cerámico) |
Distribución de temperatura |
+5[°C] (área de 30x30[mm]) |
Función de enfriamiento |
Con herramienta de calor, función de enfriamiento de trabajo |
Frecuencia de oscilación |
40[kHz] |
Rango de vibración |
Aproximadamente 0,3 a 2,6[µm] |
Método de calentamiento |
Método de calor constante (cuerno ultrasónico) |
Temperatura configurada |
RT~250[°C] (paso de 1[°C]) |
Tamaño de la herramienta |
Tipos de reemplazo de herramienta M6 (tipo roscado) *Debe cambiarse al tipo rígido para tamaños de chip superiores a 7x7 [mm]. |
Otros |
Necesita reemplazarse con cabezal de calor por impulso. |
Área de montaje |
50×50 [mm] |
Método de calentamiento |
Ceramic Heater |
Temperatura configurada |
RT~450[°C] (1[°C] paso) |
Distribución de temperatura |
+5[°C] |
Velocidad de elevación de temperatura |
Máx. 70[°C/s] (sin juego cerámico) |
Función de enfriamiento |
Disponible |
Sujeción de trabajo |
Método de succión al vacío |
Cambio de receta |
Cambio de juego |
Etapa XY |
Calefactor constante |
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Etapa para unión principal |
Área de montaje |
200×200 [mm] (área de 48 [pulgadas]) |
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Método de calentamiento |
Calor constante |
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Temperatura configurada |
200×200 [mm]: RT a 250[°C] (1[°C] por paso) |
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Distribución de temperatura |
±5% (200×200 [mm]) |
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Sujeción de trabajo |
Método de succión al vacío |
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Cambio de receta |
Cambio de juego |
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