Calefacción eléctrica |
Cámara (Cavidad simple) |
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N/A |
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Tipo de electrodo inferior |
242mm |
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Rango de Temperatura del Proceso |
-20-100°C |
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Fuente de plasma |
600W-1000W |
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Tamaño del medidor de presión del proceso |
100mtorr |
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Sistema de vacío |
Unidades de bomba molecular, sistemas de bomba seca, cámara de proceso |
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Número de cámaras de grabado |
Unidad de cavidad |
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Abrazaderas |
Tipo |
Tamaño/mm |
Material |
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N/A |
8、6、4、3、2 |
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Detector de punto final |
Opción |
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Plasma acoplado inductivamente |
Opción |
Material de grabado |
Si、Sio, Sin,Sau,Pt,Al |
Velocidad de grabado |
>20nm/min (material Si02) Las velocidades varían según el material |
Control distribuido |
>85° |
Método de carga |
Carga abierta |
Tubería de gas controlada por MFC |
Seis tanques de gas disponibles |
Opción de refrigeración posterior con helio |
Sí |
Interfaz hombre-máquina |
Operación mediante pantalla táctil |
Modo de operación |
Modo totalmente automático, modo no totalmente automático |
Selección y configuración de dispositivos automatizados |
Puede elegir entre piezas importadas o nacionales |
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