 
  









| Abschleifbare Wafer  | Größe  | Zoll  | 4,5,6,8 | 
| Reibungsart  | - | Senkrecht-eintauchende Schleifmethode  | |
| Schleifscheibenwelle  | Typen    | - | Luftlager  | 
| Menge  | - | 1 | |
| Geschwindigkeit    | u/min    | 0~5000 | |
| Ausgangsleistung    | KW    | 5.5/7.5 | |
| Hubweg  | mm  | 150 | |
| Vorschubgeschwindigkeit  | µm/s  | 0.01~100 | |
| Vorschubgeschwindigkeit  | mm/min  | 300 | |
| Auflösung    | um    | 0.1 | |
| Arbeitsstückachse  | TYP  | - | Kugellager  | 
| Menge  | - | 1 | |
| Geschwindigkeit    | u/min    | 0~300 | |
| Leistung    | kW    | 0.75 | |
| Saugkuppentyp  | - | Mikroporöse Keramik  | |
| Wafer-Saugmethode  | - | Vakuumanziehung  | |
| Wafer-Übertragung  | - | Handbuch  | |
| Andere Aufgaben  | Wafer-Zentrierung  | - | - | 
| Wafer-Reinigung  | - | - | |
| Reinigung der Saugtassen  | - | - | |
| SCHLEIFRAD  | mm  | φ200  | |
| ONLINE  abmessungen | Messbereich    | um    | 0~1800 | 
| Auflösung    | um    | 0.1 | |
| Wiederholgenauigkeit    | um    | ±0.5 | |
| Bearbeitung  genauigkeit | Intra-Wafer-Genauigkeit (TTV)  | um    | ≤2 | 
| Zwischen-Wafer-Genauigkeit (WTW)  | um    | ±3 | |
| Oberflächenrauheit (Ry)  | um    | 0,1(2000#finish)  | |
| Erscheinung  | Erscheinungsfärbung  | um    | Orange-Muster  | 
| Abmessungen(B×T×H)  | mm  | 690×1720×1780 | |
| Gewicht  | kg  | 1400 | 
| Abschleifbare Wafer  | Größe  | Zoll  | 6,8,12 | 
| Reibungsart  | - | Senkrecht-eintauchende Schleifmethode  | |
| Schleifscheibenwelle  | Typen    | - | Luftlager  | 
| Menge  | - | 1 | |
| Geschwindigkeit    | u/min    | 0~5000 | |
| Ausgangsleistung    | KW    | 5.5/7.5 | |
| Hubweg  | mm  | 150 | |
| Vorschubgeschwindigkeit  | µm/s  | 0.01~100 | |
| Vorschubgeschwindigkeit  | mm/min  | 300 | |
| Auflösung    | um    | 0.1 | |
| Arbeitsstückachse  | TYP  | - | Kugellager  | 
| Menge  | - | 1 | |
| Geschwindigkeit    | u/min    | 0~300 | |
| Saugkuppentyp  | - | Mikroporöse Keramik  | |
| Wafer-Saugmethode  | - | Vakuumanziehung  | |
| Wafer-Übertragung  | - | Handbuch  | |
| Andere Aufgaben  | Wafer-Zentrierung  | - | - | 
| Wafer-Reinigung  | - | - | |
| Reinigung der Saugtassen  | - | - | |
| SCHLEIFRAD  | mm  | φ300  | |
| ONLINE  abmessungen | Messbereich    | um    | 0~1800 | 
| Auflösung    | um    | 0.1 | |
| Wiederholgenauigkeit    | um    | ±0.5 | |
| Bearbeitung  genauigkeit | Intra-Wafer-Genauigkeit (TTV)  | um    | ≤3 | 
| Zwischen-Wafer-Genauigkeit (WTW)  | um    | ±3 | |
| Oberflächenrauheit (Ry)  | um    | 0,13(2000#finish)  | |
| Erscheinung  | Erscheinungsfärbung  | um    | Orange-Muster  | 
| Abmessungen(B×T×H)  | mm  | 790×2170×1830 | |
| Gewicht  | kg  | 1800 | 





Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd. Alle Rechte vorbehalten