Elektrische Heizung |
Kammer (Einzelkammer) |
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N/A |
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Untere Elektrodenart |
242mm |
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Prozess-Temperaturbereich |
-20-100°C |
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Plasmaquelle |
600W-1000W |
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Prozessdruckmessgerät-Größe |
100mtorr |
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Vakuumsystem |
Molekularpumpeneinheiten, Trockenpumpensysteme, Prozesskammer |
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Anzahl der Ätzkammern |
Einkammer |
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Schraubzwingen |
TYP |
Größe/mm |
Material |
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N/A |
8、6、4、3、2 |
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Endpunktdetektor |
Option |
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Induktiv gekoppeltes Plasma |
Option |
Etchmaterial |
Si、Sio, Sin,Sau,Pt,Al |
Ätzrate |
>20 nm/min (SiO₂-Material), Die Raten unterschiedlicher Materialien sind nicht gleich |
Verteilte Steuerung |
>85° |
Verlademethode |
Offenes Laden |
Gasleitung gesteuert durch MFC |
Sechs Gastanks sind verfügbar |
Helium-Kühlung an der Rückseite optional |
Ja |
Mensch-Maschine-Schnittstelle |
Bedienung über Touchscreen |
Betriebsmodus |
Vollautomatischer Modus, nicht vollautomatischer Modus |
Auswahl und Konfiguration automatisierter Geräte |
Sie können zwischen importierten oder einheimischen Teilen wählen |
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