Вступ:
Обладнання для нанесення покриттів методом магнетронного розпилення — це спеціальний лабораторний прилад для нанесення покриттів, розроблений нашою компанією. Обладнання може комплектуватися постійним струмом (DC) та радіочастотним (RF) джерелами живлення. Потужність джерел живлення становить від 500 Вт до 1000 Вт. Порівняно з традиційним плазмовим розпиленням, магнетронне розпилення має такі переваги: висока енергія, висока швидкість, висока швидкість осадження та незначне підвищення температури зразка. Магнетронна мішень оснащена водяним охолоджувальним проміжним шаром. Водяне охолодження ефективно відводить тепло й запобігає його накопиченню на поверхні мішені, що забезпечує тривалу стабільну роботу процесу магнетронного нанесення покриттів. Благодаря компактному конструюванню досягнуто оптимального балансу між об’ємом та продуктивністю, зовнішній вигляд обладнання естетичний, а функціональність — повна. Управління всім пристроєм здійснюється за допомогою сенсорного екрана та вбудованої програми «одне натискання» для нанесення покриття, що забезпечує простоту експлуатації. Це ідеальне обладнання для підготовки тонких плівок у лабораторних умовах.
Застосування:
Може використовуватися для виготовлення одношарових або багатошарових тонких фероелектричних плівок, провідних плівок, сплавних плівок, напівпровідникових плівок, керамічних плівок, діелектричних плівок, оптичних плівок тощо.