Вступ:
Пристрій для нанесення покриттів методом магнетронного розпилення з двома цілями — це спеціалізований у лабораторних умовах прилад для нанесення покриттів, розроблений нашою компанією, що має дві позиції для мішеней. Обладнання оснащене постійним струмом і радіочастотним джерелом живлення. Порівняно зі звичайним плазмовим розпиленням, магнетронне розпилення має такі переваги: висока енергія та висока швидкість, висока швидкість нанесення покриття; це типовий високошвидкісний низькотемпературний процес розпилення. Магнетронна мішень оснащена водяним охолоджувальним проміжним шаром. Водяне охолодження ефективно відводить тепло й запобігає нагріванню поверхні мішені, забезпечуючи тривалу стабільну роботу процесу магнетронного нанесення покриттів. Стіл для зразків у цій моделі виконаний за принципом зворотно-поступального руху, з магнітним муфтовим штовхачем з лівої сторони, який забезпечує переміщення столу для зразків уліво та вправо. Управління всім приладом здійснюється через сенсорний екран, у якому передбачено вбудовану програму «одне натискання кнопки» для нанесення покриття — проста й зручна у роботі, що робить цей прилад ідеальним для лабораторного виготовлення тонких плівок.
Застосування:
Може використовуватися для виготовлення одношарових або багатошарових тонких фероелектричних плівок, провідних плівок, сплавних плівок, напівпровідникових плівок, керамічних плівок, діелектричних плівок, оптичних плівок тощо.