EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
Вступ: Пристрій для нанесення покриттів методом магнетронного розпилення з двома цілями — це спеціалізований лабораторний пристрій для нанесення покриттів, розроблений нашою компанією, що має дві позиції для мішеней. Обладнання оснащене постійним струмом (DC) та радіочастотним (RF) джерелами живлення. Порівняно зі звичайним плазмовим розпиленням, магнетронне розпилення має такі переваги, як висока енергія й висока швидкість, висока швидкість нанесення покриття, а також є типовим високошвидкісним низькотемпературним процесом розпилення. Магнетронна мішень оснащена водяним охолоджувальним проміжним шаром. Водяний охолоджувач ефективно відводить тепло й запобігає нагромадженню тепла на поверхні мішені, забезпечуючи тривалу стабільну роботу процесу магнетронного нанесення покриттів. Стіл для зразків у цій моделі виконаний за принципом зворотно-поступального руху і має магнітний муфтний штовхач з лівої сторони, який забезпечує переміщення столу для зразків уліво та вправо. Управління всім пристроєм здійснюється за допомогою сенсорного екрана, у якому передбачена вбудована програма «одне натискання» для нанесення покриття — проста й зручна у використанні. Це ідеальне обладнання для лабораторного виготовлення тонких плівок.
Застосування: може використовуватися для отримання тонких фероелектричних плівок (одношарових або багатошарових), провідних плівок, сплавних плівок, напівпровідникових плівок, керамічних плівок, діелектричних плівок, оптичних плівок тощо.
