Електричне опалення |
Камера (однокамерна) |
||||
Н/Д |
|||||
Тип нижнього електрода |
242mm |
||||
Температурний діапазон процесу |
-20-100°C |
||||
Plasma source |
600 Вт - 1000 Вт |
||||
Розмір манометра процесу |
100 мторр |
||||
Вакуумна система |
Молекулярні насосні установки, сухі насосні системи, робоча камера |
||||
Кількість етчингових камер |
Одна порожнина |
||||
Застежки |
Тип |
Розмір/mm |
Матеріал |
||
Н/Д |
8、6、4、3、2 |
||||
Детектор кінцевої точки |
Опція |
||||
Індуктивно зв’язана плазма |
Опція |
Матеріал для етчингу |
Si、Sio, Sin,Sau,Pt,Al |
Швидкість етчингу |
>20 нм/хв (матеріал SiO2). Швидкості для різних матеріалів відрізняються |
Розподілений контроль |
>85° |
Метод завантаження |
Відкрите завантаження |
Газопровід керований МРК |
Доступні шість газових балонів |
Опція охолодження зворотного боку гелієм |
Так |
Інтерфейс човек-машина |
Керування сенсорним екраном |
Режим роботи |
Повністю автоматичний режим, не повністю автоматичний режим |
Вибір та налаштування автоматизованих пристроїв |
Можна вибрати імпортні або вітчизняні комплектуючі |
Авторське право © Гуанчжоу Minder-Hightech Co., Ltd. Всі права захищені